プラズマCVD法による高品質ダイヤモンドの合成
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概要
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Diamond film synthesis by plasma Chemical Vapor Deposition (CVD) methods has been succeeded about 20 years ago. In industry, however, the CVD diamond has not become popular due to their high cost of fabrication. Recently, the quality of the CVD diamond has been improved dramatically by decreasing the unintentional incorporation of nitrogen impurity, by slowing down the growth rate, and by finding some proper materials for heteroepitaxial growth of diamond. Some new application areas of CVD diamond films becomes realistic due to the progresses.
- 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
- 2000-09-25
著者
-
伊藤 利道
大阪大 大学院工学研究科
-
八田 章光
高知工科大学電子・光システム工学科
-
八田 章光
高知工科大学
-
平木 昭夫
高知工科大学電子・光システムエ学科
-
伊藤 利道
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
住友 卓
高知工科大学電子・光システム工学科
-
平木 昭夫
高知工科大学電子・光システム工学科
-
住友 卓
高知工科大学:(現)ウシオ電機
-
平木 昭夫
高知工科大
-
八田 章光
高知工科大
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