高速イオン散乱・チャネリング法による金属/半導体界面の評価

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概要

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• 日本金属学会の論文
• 1995-07-20

著者

• 伊藤 利道

  大阪大 大学院工学研究科

• 平木 昭夫

  高知工科大学電子・光システム工学科

• 伊藤 利道

  大阪大学助教授;工学部電気工学科

• 平木 昭夫

  大阪大学教授;工学部電気工学科

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