イオンバックスキャッタ法による表面分析 (I)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 高効率真空ナノランプの開発(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 蛍光灯に代わるフィールドエミッション式照明システム
- 多孔質シリコンから観測される半値幅の狭いフォトルミネセンス
- ポーラスシリコンの酸化による構造安定化とその物性
- 水素プラズマ処理による酸化多孔質シリコンのPL、EL特性の安定化
- pn接合多孔質シリコンの可視発光
- ダイヤモンド表面物性の評価・制御と電子エミッターへの応用
- 硝酸塩水溶液のパルス噴霧熱分解法によるYBa_2Cu_3O_超伝導薄膜の作製
- 可視発光多孔質シリコンの陽極酸化処理効果
- 28p-C-2 CVDダイヤモンドの半導体物性
- Si/金属界面での低温化学反応と電子状態(「表面電子系の理論」報告,基研短期研究会)
- 低温・低圧合成ダイヤモンド薄膜
- ダイヤモンド気相合成における基板バイアスによる核発生過程
- 半導体ダイヤモンド薄膜を用いた電子エミッタ
- プロ-ブとしての加速器
- 超微粒子種結晶を用いたダイヤモンド薄膜の低温合成(カーボン)
- 多孔質シリコンの陽極化成
- 気相合成ダイヤモンド薄膜/金属界面の特性
- 多孔質シリコンの初期酸化と金属シリサイド化
- ヘリウム雰囲気中での反応性スパッタによる高光伝導度水素化シリコン
- 有磁場マイクロ波プラズマCVD法およびマイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜の作製
- イオンバックスキャッタ法による表面分析 (III)
- イオンバックスキャッタ法による表面分析 (II)
- イオンバックスキャッタ法による表面分析 (I)
- Si基板中へのAu+およびCu+の高濃度イオン注入によるSi-Au,-Cu合金の直接生成
- 構造用ダイヤモンド薄膜 (炭素材料)
- タイトル無し