土屋 敏章 | NTT LSI研究所
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概要
関連著者
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土屋 敏章
NTT LSI研究所
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門 勇一
NTT LSI研究所
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門 勇一
Nttシステムエレクトロニクス研究所
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大野 晃計
NTT LSI研究所
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大野 晃計
NTTシステムエレクトロニクス研究所
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大野 晃計
Ntt Lsi研
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井野 正行
Nttエレクトロニクステクノロジー
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井野 正行
NTT LSI研究所
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榊原 裕
通信・放送機構兵庫リサーチセンタ
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榊原 裕
Ntt Lsi研究所
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猪川 洋
NTT LSI研究所
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西村 和好
NTT LSI研究所
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西村 和好
NTTシステムエレクトロニクス研究所
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西村 和好
Ntt Lsi研
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小杉 敏彦
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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道関 隆国
NTT通信エネルギー研究所
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酒井 徹志
NTT LSI研究所
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佐藤 康博
NTTマイクロシステムインテグレーション研究所
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道関 隆国
Nttシステムエレクトロニクス研究所
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道関 隆国
Ntt Lsi 研究所
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原田 充
Nttシステムエレクトロニクス研究所
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佐藤 康博
日本電信電話株式会社マイクロシステムインテグレーション研究所
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石井 仁
日本電信電話株式会社nttマイクロシステムインテグレーション研究所
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小杉 敏彦
日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所
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石井 仁
NTT LSI研究所
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原田 充
NTT LSI研究所
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佐藤 康博
NTT LSI研究所
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小杉 敏彦
NTT LSI研究所
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石井 仁
日本電信電話株式会社:豊橋技術科学大学
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竹谷 健
Ntt Lsi研究所
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田沢 聰
Nttグループ企業本部
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田沢 聰
Ntt Lsi研究所
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首藤 啓樹
日本電信電話(株)
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田辺 泰之
NTT通信エネルギー研究所
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山田 宏
Ntt Lsi研究所
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河合 羲夫
NTT LSI研究所
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佐藤 政明
NTT LSI研究所
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中嶋 定夫
NTT LSI研究所
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北村 守
NTT LSI研究所
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中山 諭
NTT LSI研究所
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伊達 滋
NTT LSI研究所
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岡崎 幸夫
Ntt Lsi研究所
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富沢 雅彰
Ntt Lsi研究所
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富沢 雅彰
Nttシステムエレクトロニクス研究所
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大高 明浩
NTT LSI研究所
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河合 義夫
NTT LSI研究所
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石原 隆子
日本電信電株式会社マイクロシステムインテグレーション研究所
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重松 智志
NTT LSI研究所
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山越 公洋
Nttシステムエレクトロニクス研究所
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大友 祐輔
日本電信電話株式会社nttマイクロシステムインテグレーション研究所
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山本 栄一
NTT LSI研究所
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高橋 光俊
NTT LSI研究所
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土屋 敏章
NTTシステムエレクトロニクス研究所
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安田 禎之
NTTネットワークサービスシステム研究所
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沢田 博俊
NTTシステムエレクトロニクス研究所
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武谷 健
NTTシステムエレクトロニクス研究所
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首藤 啓樹
NTTシステムエレクトロニクス研究所
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沢田 博俊
NTT LSI研究所
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首藤 啓樹
NTT LSI研究所
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山越 公洋
NTT LSI研究所
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石原 隆子
NTT LSI研究所
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田辺 泰之
NTT LSI研究所
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中山 諭
Nttシステムエレクトロニクス研究所
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武谷 健
NTT LSI研究所
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安田 禎之
NTT LSI研究所
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大友 祐輔
NTT LSI研究所
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河合 義夫
日本電信電話(株)lsi研究所
-
大友 祐輔
Ntt マイクロシステムインテグレーション研
著作論文
- 完全空乏型CMOS/SIMOX素子の低電圧・低消費電力型VLSI構成要素としての優位性
- 完全空乏型MOSFET/SIMOXの基板浮遊効果抑制策と信頼性
- Arイオン注入による極薄膜nMOSFETs/SIMOXにおける寄生バイポーラ効果の抑制
- 0.25μm CMOS/SIMOXゲートアレイLSI
- 0.5V MTCMOS/SlMOX回路
- 0.5V動作MTCMOS/SIMOX回路
- 極薄膜MOSFET/SIMOXのソース・ドレイン上に形成したW層の寄生バイポーラ効果への影響
- ソース/ドレイン上に選択W層を形成した1/4ミクロン級極薄膜MOSFET/SIMOXの特性
- 1/4μm完全空乏型CMOS/SIMOX・LSIとバルク・LSIの比較 : 論理ゲート遅延及び寄生容量の電源電圧依存性
- 1/4・ミクロンゲート極薄膜CMOS/SIMOXゲートアレイのダイナミック性能と消費電流特性
- SOI MOSFET : 低消費電力・高速向け将来デバイス
- 3GHz CMOS MUX/DEMUX回路
- 完全空乏型CMOS/SIMOXインバータ回路における消費電流のダイナミック特性