河合 義夫 | NTT LSI研究所

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  NTT LSI研究所

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  日本電信電話(株)lsi研究所

• 大高 明浩

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

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• 松田 維人

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• 榊原 裕

  通信・放送機構兵庫リサーチセンタ

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• 門 勇一

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著作論文

• 空間周波数2倍化法 (FREDIS) を用いた KrF 露光によるサブ 0.15μm パタン形成
• ハーフトーン位相シフトマスクを用いた微細ホールパタン形成
• 1/4・ミクロンゲート極薄膜CMOS/SIMOXゲートアレイのダイナミック性能と消費電流特性
• 微細加工最前線

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