大高 明浩 | NTTシステムエレクトロニクス研究所

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概要

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• 同名の論文著者
• NTTシステムエレクトロニクス研究所の論文著者

関連著者

• 大高 明浩

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 大高 明浩

  NTT LSI研究所

• 河合 義夫

  NTT LSI研究所

• 松田 維人

  NTT LSI研究所

• 河合 義夫

  日本電信電話(株)lsi研究所

• 河合 義夫

  NTTシステムエレクトニクス研究所

• 河合 義夫

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 田中 啓順

  NTT LSI研究所

• 中村 二朗

  NTTシステムエレクトニクス研究所

著作論文

• 空間周波数2倍化法 (FREDIS) を用いた KrF 露光によるサブ 0.15μm パタン形成
• ハーフトーン位相シフトマスクを用いたKrF露光による0.20μmロジックゲートパタン形成
• 0.25μmCMOS/SIMOX用KrFリソグラフィ技術 (特集 0.25μmCMOS/SIMOXゲ-トアレイ技術)
• ハーフトーン位相シフトマスクを用いた微細ホールパタン形成

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