河合 義夫 | 日本電信電話(株)lsi研究所

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概要

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関連著者

• 河合 義夫

  NTT LSI研究所

• 河合 義夫

  日本電信電話(株)lsi研究所

• 大高 明浩

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 大高 明浩

  NTT LSI研究所

• 松田 維人

  NTT LSI研究所

• 榊原 裕

  通信・放送機構兵庫リサーチセンタ

• 榊原 裕

  Ntt Lsi研究所

• 門 勇一

  NTT LSI研究所

• 土屋 敏章

  NTT LSI研究所

• 門 勇一

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• 田中 啓順

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• 大野 晃計

  NTT LSI研究所

• 山本 栄一

  NTT LSI研究所

• 大野 晃計

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著作論文

• 空間周波数2倍化法 (FREDIS) を用いた KrF 露光によるサブ 0.15μm パタン形成
• ハーフトーン位相シフトマスクを用いた微細ホールパタン形成
• 1/4・ミクロンゲート極薄膜CMOS/SIMOXゲートアレイのダイナミック性能と消費電流特性
• 微細加工最前線

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