大高 明浩 | NTT LSI研究所

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著作論文

• 空間周波数2倍化法 (FREDIS) を用いた KrF 露光によるサブ 0.15μm パタン形成
• Arイオン注入による極薄膜nMOSFETs/SIMOXにおける寄生バイポーラ効果の抑制
• ハーフトーン位相シフトマスクを用いた微細ホールパタン形成

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