ハーフトーン位相シフトマスクを用いた微細ホールパタン形成

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概要

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微細ホールパタンの焦点深度を拡大する新しい方法を提案する。この方法は投影像の複素振幅に着目し、パタン中心部における光強度劣化をなくすことにより、焦点深度を拡大する方法である。この方法によるホールパタンの限界解像寸法は0.5λ, NAで、このときの焦点深度は±1.0λ/NA^2である。さらに、この方法は透過率を最適化したハーフトーン位相シフトマスクで実現できる。焦点深度を最大にするマスク透過率は、0.6λ/NAのホールパタンに対して17.3%である。この方法の検証として、ハーフトーン位相シフトマスクをKrF露光に適用した結果、0.25μmのホールパタンが焦点余裕1.4μmをもって形成された。さらにホールが一列に並んだ場合の近接効果の影響についても述べる。
社団法人電子情報通信学会の論文
1993-10-28

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