上野 和良 | 芝浦工大

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概要

• 同名の論文著者
• 芝浦工大の論文著者

関連著者

• 上野 和良

  芝浦工大

• 廣瀬 和之

  宇宙研

• 上野 和良

  芝浦工業大学

• 小野 崇人

  東北大学

• 高村 禅

  北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科

• 新宮原 正三

  関西大学大学院工学研究科

• 小田 俊理

  東工大量子ナノエレ研セ

• 平本 俊郎

  東京大学生産技術研究所

• 高村 禅

  北陸先端大院・マテリアルサイエンス

• 高村 禅

  北陸先端科学技術大学院大学

• 浦岡 行治

  奈良先端大

• 羽根 一博

  東北大学

• 一木 隆範

  東大院・工・バイオエンジニアリング

• 平本 俊郎

  東大

• 平本 俊郎

  東京大学生産技術研究所:mirai-selete

• 小田 俊理

  東工大工

• 小田 俊理

  東工大量子ナノ研:sorst-jst

• 小田 俊理

  東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター

• ODA Shunri

  Research Center for Quantum Effect Electronics, Tokyo Institute of Technology

• 高橋 庸夫

  北海道大学大学院情報科学研究科

• 山本 智彦

  (株)東レリサーチセンター形態科学研究部

• 松井 真二

  兵庫県立大高度研

• 森 伸也

  阪大院工

• 森 伸也

  阪大工

• 辰巳 哲也

  ソニー(株)半導体事業本部セミコンダクターテクノロジー開発部門

• 辰巳 哲也

  技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室

• 鳥海 明

  東大

• 金田 千穂子

  富士通研

• 小田中 紳二

  阪大

• 宮崎 誠一

  広大院先端研

• 橋本 秀樹

  株式会社東レリサーチセンター

• 金田 千穂子

  富士通研究所

• 石田 誠

  豊橋技科大

• 井谷 俊郎

  Selete

• 坂本 邦博

  産総研

• 芝原 健太郎

  広大

• 須田 良幸

  農工大

• 高橋 庸夫

  北大

• 久本 大

  日立

• 水野 文二

  UJTラボ

• 須田 良幸

  農工大・工

• 島田 裕至

  芝浦工業大学

• 青木 和慶

  芝浦工業大学

• 蓬田 茂

  KISCO(株)

• 赤堀 誠至

  (株)東レ リサーチセンター

• 山口 貴雅

  芝浦工業大学

• 松山 亜紀子

  KISCO(株)

• 矢田 隆司

  KISCO(株)

• 橋本 秀樹

  (株)東レ リサーチセンター

• 一木 隆範

  東洋大学・工

• 新宮原 正三

  関西大

• 井谷 俊郎

  日本電気ULSIデバイス開発研究所

• 鳥海 明

  東大・物工

• 鳥海 明

  東大院工

• 辰巳 哲也

  ソニー

• 高村 禅

  北陸先端大

• 森 伸也

  阪大

• 小野 崇人

  東北大学大学院工学研究科

• 小田 俊理

  東工大

• 高橋 庸夫

  東北大・工

• 高橋 庸夫

  北海道大学 大学院情報科学研究科

• 小林 大輔

  宇宙航空研究開発機構宇宙科学研究本部

• Hane Kazuhiro

  Department Of Mechatronics & Precision Engineering Tohoku University

• Hane Kazuhiro

  Faculty Of Engineering Tohoku University

• 井谷 俊郎

  Nec

• Hiramoto Toshirou

  Device Development Center Hitachi Ltd.

• Hiramoto Toshiro

  The Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo:vlsi Design And Education Center The Uni

• Hiramoto Toshiro

  Institute Of Industrial Science University Of Tokyo

• Hiramoto Toshiro

  Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo

• Hiramoto T

  Univ. Tokyo

• Hiramoto Toshiro

  Vlsi Design And Education Center University Of Tokyo

• 宮崎 誠一

  広大

• 松井 真二

  兵庫県立大

• 高橋 庸夫

  日本確信電話(株)ntt物性科学基礎研究所

• Oda S

  Tokyo Inst. Technology Tokyo Jpn

• Oda S

  Tokyo Inst. Technol. Tokyo Jpn

• Oda Shunri

  Quantum Nanoelectronics Research Center Tokyo Institute Of Technology

• Oda Shunri

  Research Center For Quantum Effect Electronics And Department Of Physical Electronics Tokyo Institut

• Oda Shunri

  The Graduate School At Nagatsuta Tokyo Institute Of Technology

• 山本 智彦

  (株)東レ リサーチセンター

• 一木 隆範

  東大

• 一木 隆範

  東京大学大学院工学系研究科バイオエンジニアリング専攻

• 高橋 庸夫

  北海道大学情報科学研究科

• Nohira Hiroshi

  Faculty Of Engineering Musashi Institute Of Technology

• 小野 崇人

  東北大

• 羽根 一博

  東北大学大学院

• Hiramoto Toshiro

  The Authors Are With Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo:the Author Is With Vlsi

• 小田 俊理

  東京工業大学総合理工学研究科

• 橋本 秀樹

  東レリサーチセ

• Hiramoto Toshiro

  Vlsi Design And Education Center The University Of Tokyo

• 一木 隆範

  東大 大学院工学系研究科

• 羽根 一博

  東北大学大学院工学研究科

• 一木 隆範

  東京大学 大学院工学系研究科 バイオエンジニアリング専攻

• 五十嵐 智

  東京都市大

• 石原 由梨

  芝浦工大

• 渋谷 寧浩

  東京都市大

• 小林 大輔

  宇宙研

• 野平 博司

  東京都市大

• 羽根 一博

  東北大

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著作論文

• シリコン技術
• 超臨界流体中アニールによるめっき銅膜の改質
• ナノ銅配線低抵抗化のための新結晶粒制御法
• 半導体デバイスにおける多層配線技術の進展と今後の展開
• 21701 集積回路配線技術の動向と展望(配線1,OS.12 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))
• XPS時間依存測定法によるSiO_2/Si界面の電荷トラップ密度の面方位依存性の評価(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• 半導体集積回路の配線に用いる銅めっき膜の不純物

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