3族窒化物/SiCヘテロ界面を用いたワイドギャップ半導体デバイス (特集 新ヘテロ界面の実現に向けた半導体結晶成長技術の進展)

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概要

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• 日本表面科学会の論文

著者

• 須田 淳

  京都大学工学研究科電子工学専攻

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