Growth kinetics and modeling of selective molecular beam epitaxial growth of GaAs ridge quantum wires on pre-patterned nonplanar substrates
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概要
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The growth kinetics involved in the selective molecular beam epitaxial growth of GaAs ridge QWRs is investigated in detail experimentally and an attempt is made to model the growth theoretically. For this purpose, detailed experiments were carried out on the growth of <110>-oriented AlGaAs-GaAs ridge quantum wires on mesa-patterned (001) GaAs substrates.Aphenomenological modeling was done based on the continuum approximation including parameters such as group III adatom lifetime, diffusion constant and migration length. Computer simulation using the resultant model well reproduces the experimentally observed growth features such as the cross-sectional structure of the ridge wire and its temporal evolution, its temperature dependence and evolution of facet boundary planes. The simple phenomenological model developed here seems to be very useful for design and precise control of the growth process.
- American Vacuum Societyの論文
著者
-
長谷川 英機
北海道大学量子集積エレクトロニクス研究センター
-
Hasegawa Hideki
Department Of Electrical Engineering Faculty Of Engineering Hokkaido University:department Of Electr
-
Sato T
Hokkaido Univ. Sapporo Jpn
-
Sato Taketomo
Graduate School Of Electronics And Information Engineering And Research Center For Integrated Quantu
-
Tamai Isao
Research Center For Integrated Quantum Electronics And Graduate School Of Information Science And Te
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