インクリメンタル高位合成に向けた設計記述間差分の計算手法
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概要
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ASIC の開発コスト増大と開発期間短縮に伴い,設計後の修正を行う Engineering Change (EC) 手法の重要性が増している.また一方で,ASIC 設計の生産性向上を目的として高位合成を利用した設計手法の導入が進んでいる.高位合成の普及とともに,従来のゲートレベルにおける EC 手法ではなく高位設計における EC 手法の重要性が高まってきており,近年インクリメンタル高位合成手法が提案されている 1),2).これらの手法では設計記述間の差分が合成結果に大きく影響を与えるため,できるだけ小さい差分を求めることが重要である.そこで本稿では,設計記述間の最小差分を求める手法を提案する.提案手法では内部表現の文字列表現の間の差分を求めることにより効率的に設計記述間の差分を求めることができる.実際にインクリメンタル高位合成システムに提案手法を実装し,例題に対して初期的な実験を行った.
- 2011-03-11
著者
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藤田 昌宏
富士通研究所人工知能研究部
-
藤田 昌宏
東京大学大学院工学系研究科電子工学
-
吉田 浩章
東京大学大規模集積システム設計教育研究センター
-
吉田 浩章
東北大学電気通信研究所
-
藤田 昌宏
東京大学大規模集積システム設計教育研究センター:科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業crest
-
吉田 浩章
東京大学大学院工学系研究科
-
藤田 昌宏
埼玉大学大学院理工学研究科
-
藤田 昌宏
東京大学大規模集積システム設計教育研究センター
-
藤田 昌宏
国立札幌病院
-
吉田 浩章
東京大学大規模集積システム設計教育研究センター(vdec)|科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業crest
-
藤田 昌宏
東京大学大規模集積システム設計教育研究センター(vdec)|科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業crest
-
藤田 昌宏
富士通研
-
藤田 昌宏
東京大学、大規模集積システム設計教育研究センター
-
藤田 昌宏
東京大学大規模集積システム設計教育研究センター|科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業crest
-
藤田 昌宏
東京大学大規模集積システム設計教育研究センター(VDEC):科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業CREST
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