LSIの設計品質はCADツールの使いこなしが決める! : CAD技術の研究開発なくして高性能LSIはない
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概要
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半導体技術の微細化により, 先端LSIはますます高集積化・高性能化しており, その迅速な設計には, 先端CADツールの利用が必須となっている.設計対象の大規模化, ならびに半導体の超微細化による設計制約などのため, 単純にCADツールをマニュアルどおりに適用すれば, 所望の性能のLSIが設計できるということは, まずありえなくなっている.LSIの高性能化のためには, 使用するCADツールの性能を最大限に発揮できるように使いこなす必要がある.実際には, さらに進んでCADツール開発者とLSI設計者がチームワークを組んでCADツールの開発や使い方の研究を進めないと他者との競争に勝てなくなりつつあると言える.ところが, 現在の日本のLSI設計はほぼ100%主に米国製のCADツールならびに関連CAD技術を利用しており, LSI設計者の間でCAD技術に対する理解が諸外国と比較し, 薄れているのではないかと危惧される.本パネルディスカッションでは, 日本でLSI CADに関する研究開発が活発でなかった理由を解析し, 世界に通用する研究開発を行っていく方策を考えるとともに, それを通して真に高度なLSI設計技術を持続的に保持する方策を探りたい.
- 社団法人情報処理学会の論文
- 2001-09-15
著者
-
藤田 昌宏
東京大学大学院工学系研究科電子工学
-
藤田 昌宏
東大小児科
-
藤田 昌宏
東京大学工学系研究科
-
安浦 寛人
九大
-
高田 広章
豊橋技科大
-
谷澤 哲
富士通
-
吉田 憲司
半導体理工学研究センター
-
WATANABE Yosinori
Cadence Berkeley Labs.
-
吉田 憲司
(株)半導体理工学研究センター
-
藤田 昌宏
東大
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