21114 Siナノホールの作製と超臨界CO_2によるCu埋め込み(配線技術,OS.3 機械工学が支援する微細加工技術(半導体,MEMS,NEMS))
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概要
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- 社団法人日本機械学会の論文
- 2009-03-05
著者
-
松村 道雄
大阪大学有機光工学研究センター
-
松原 正弘
山梨大学 大学院医学工学総合教育部
-
近藤 英一
山梨大学 大学院医学工学総合研究部
-
松村 道雄
大阪大
-
近藤 英一
山梨大学大学院医学工学総合研究部情報システム工学系(機械情報システム専攻)
-
玉井 架
山梨大
-
李 佳龍
大阪大
-
近藤 英一
山梨大学
-
近藤 英一
山梨大
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