21407 フロー超臨界薄膜装置による薄膜の堆積特性と長時間成膜への適用(デバイス&配線技術2,OS.1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS),学術講演)

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概要

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• A supercritical fluids is a high-pressure medium that possesses unique features such as solvent ability and nano penetration capability. Using supercritical carbon dioxide fluids as a medium for thin film deposition provides excellent gap-filling and step-coverage possibilities. We have developed a flow-type deposition apparatus that enables continuous supply of metal precursor with fixed deposition parameter. A long time Cu deposition carried out using a flow-type apparatus with supplying Cu(dibm)_2 dissolved in acetone continuously to the reactor. The film thickness deposited was 1.4〜2.9 μm. MEMS bridging vias with 10 μm dia. via were deposited and good filling was observed.

• 一般社団法人日本機械学会の論文
• 2008-03-13

著者

• 松原 正弘

  山梨大学 大学院医学工学総合教育部

• 近藤 英一

  山梨大学 大学院医学工学総合研究部

• 近藤 英一

  山梨大学大学院医学工学総合研究部情報システム工学系(機械情報システム専攻)

• 松原 正弘

  山梨大院

• 近藤 英一

  山梨大学

• 近藤 英一

  山梨大

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