20708 超臨界二酸化炭素を用いた微細配線形成技術 : 連続・フロー式成膜実験装置の開発(機械工学が支援する半導体製造技術(II),OS13 機械工学が支援する半導体薄膜製造技術)
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概要
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Supercritical fluids is a high-pressure medium that possesses unique features such as solvent ability and nano penetration capability. Using supercritical CO_2 fluids as a medium for thin film deposition provides excellent gap-filling and step-coverage possibilities. Lacking of the information of pros and cons and deposition characteristics exists due to the novelty of this technique. One of the reason for that is no presence of deposition tools sophisticated as much as existing deposition techniques such as CVD. We have recently developed a flow-type deposition tool that enables continuous supply of a metal precursor with fixing the deposition parameters. This paper reports quantitative discussion of deposition characteristics of Cu thin film growth using the flow type reactor.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2005-03-17
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