30aXD-7 陽電子消滅法によるSi中不純物ゲッタリング挙動の研究(30aXD X線,粒子線(陽電子消滅),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 社団法人日本物理学会の論文
• 2006-03-04

著者

• 藤浪 真紀

  千葉大院工

• 前川 雅樹

  日本原子力研究開発機構先端基礎研

• 河裾 厚男

  原子力機構先端基礎研

• 赤羽 隆史

  物材機構

• 藤浪 真紀

  東大 大学院

• 松川 和人

  (株)ルネサステクノロジ

• 松川 和人

  ルネサステクノロジ技術開発統括部

• 原田 博文

  シルトロニック・ジャパン(株)

• 前川 雅樹

  原子力機構・先端基礎研

• 小熊 幸一

  千葉大院工

• 藤浪 真紀

  千葉大工

• 渡辺 和也

  千葉大工

• 小熊 幸一

  千葉大工

• 河裾 厚男

  原子力機構・先端基礎研

• 河裾 厚男

  原子力機構 先端基礎研

• 前川 雅樹

  原研 高崎研

関連論文

• 21aHS-3 陽電子マイクロビームを用いた炭化ジルコニウム燃料被覆膜の評価(21aHS X線・粒子線(陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 20aHT-7 陽電子プローブマイクロアナライザーによる延伸鉄試料の欠陥評価(20aHT 領域10 格子欠陥・ナノ構造(水素,ナノ粒子,金属),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 20aHT-6 陽電子プローブマイクロアナライザーによる塑性変形した鉄-銅合金の欠陥分布計測(20aHT 領域10 格子欠陥・ナノ構造(水素,ナノ粒子,金属),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 22pGQ-11 反射高速陽電子回折によるモット絶縁体表面の原子配置の研究(22pGQ 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 原子力機構における陽電子マイクロビームの生成・利用 (特集 放射線を応用した分析技術)
• 27aRE-7 陽電子プローブマイクロアナライザーを用いた高分子中の陽電子寿命測定(27aRE X線・粒子線(陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 23pVE-10 陽電子プローブマイクロアナライザーによる欠陥分布の観察(23pVE 格子欠陥・ナノ構造(光物性・微粒子・水素・陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 28pYK-7 陽電子プローブマイクロアナライザーによる塑性変形した鉄系試料の欠陥分布計測(X線・粒子線(陽電子),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 29pRB-4 RIを陽電子源とした陽電子プローブマイクロアナライザーによる空孔二次元分布計測(29pRB 格子欠陥・ナノ構造(金属・陽電子・水素・炭素),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 27aRB-7 融点直下シリコンの陽電子消滅測定(27aRB 格子欠陥・ナノ構造(半導体・シミュレーション),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 「陽電子の分子への付着過程:PET(陽電子断層撮影法)の基礎として」に対するコメント(会員の声)
• 22pRE-4 高エネルギーイオン照射によって誘起されたFe-Rh合金における微細磁気構造(放射線物理(固体内衝突・損傷過程),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
• 15pXG-7 磁界レンズを用いた陽電子回折装置の開発(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
• 20pXB-5 反射高速陽電子回折・開発とその応用
• 23aYD-13 反射高速陽電子回折の視射角依存性による最表面構造の研究
• 28aRD-2 反射高速陽電子回折を用いたSn/Ge(111)表面の相転移の研究(28aRD 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23pXB-11 反射高速陽電子回折を用いた半導体表面上のSn原子吸着構造の低温相の研究(23pXB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23pXB-10 反射高速陽電子回折におけるエネルギー損失スペクトルの測定(23pXB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 22pPSB-21 反射高速陽電子回折による貴金属吸着誘起Si(111)-√×√超構造の研究(22pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23aTH-4 Hume-Rothery電子化合物の合金単原子層(液体・アモルファス・その他,領域6,金属,超低温,超伝導・密度波)
• 25pTE-11 反射高速陽電子回折を用いたIn/Si(111)表面における金属-絶縁体転移の研究(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 26aRJ-4 反射高速陽電子回折における非弾性散乱過程の研究(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 22aXJ-2 反射高速陽電子回折におけるエネルギー損失過程の研究(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 21pXJ-3 反射高速陽電子回折を用いたIn/Si(111)表面における(4×1)-(8×'2')相転移の研究(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 21pTG-8 反射高速陽電子回折によるPb/Ge(111)表面の構造と相転移の研究(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 21pTG-9 反射高速陽電子回折によるIn/Si(111)表面構造相転移の研究(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 21pXJ-3 反射高速陽電子回折を用いたIn/Si(111)表面における(4×1)-(8×'2')相転移の研究(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 27pYG-10 反射高速陽電子回折を用いた金属薄膜表面における表面プラズモン励起の研究(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 24aYM-2 超重力場処理後の金属間化合物(Bi_3Pb_7)の陽電子寿命測定(格子欠陥・ナノ構造,領域10(誘電体, 格子欠陥, X線・粒子線, フォノン物性))
• 8p-S-9 陽電子消滅法による石英ガラス、メタミクトガラス、結晶石英の構造と照射欠陥の研究
• 27aRE-10 透過型陽電子顕微鏡における像質改善の取組(27aRE X線・粒子線(陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 21pWA-8 透過型陽電子顕微鏡を用いた像観察(21pWA X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• Cu汚染起因ピット不良の評価と水素アニールおよびエピタキシャル成長による改善
• 原子力機構における陽電子マイクロビームの生成・利用
• 1J2-5 共振ヤング率顕微鏡を用いたSiウェハー内の酸素析出物の評価(測定技術,映像法,非破壊評価II)
• 21pXJ-3 反射高速陽電子回折を用いたIn/Si(111)表面における(4×1)-(8×'2')相転移の研究(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 21pXJ-3 反射高速陽電子回折を用いたIn/Si(111)表面における(4×1)-(8×'2')相転移の研究(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 28pYK-6 陽電子マイクロビームによる応力印加下ステンレス鋼の亀裂評価(X線・粒子線(陽電子),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• シリコンウェハの技術動向 (超LSI製造・試験装置ガイドブック 2001年版) -- (総論)
• 25pYP-7 陽電子消滅同時計数ドップラー幅測定法によるB、BF_2注入Si中の欠陥の研究
• J0406-1-3 ピコ秒レーザー超音波法によるSiウェハー中のナノ欠陥評価(超音波計測・解析法の新展開(1))(超音波計測・解析法の新展開(1))
• 30aXD-7 陽電子消滅法によるSi中不純物ゲッタリング挙動の研究(30aXD X線,粒子線(陽電子消滅),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• イオン照射した鉄の同時計数ドップラー幅測定 (「陽電子ビームの形成と理工学への応用」専門研究会報告書 平成14年度)
• 23aWS-5 反射高速陽電子回折によるアルカリ金属吸着Si(111)-√×√-B表面の相転移の研究(23aWS 表面界面構造(半導体),領域9(表面・界面,結晶成長))
• 25aWZ-4 ポジトロニウム挙動による石英ガラスの構造解析(25aWZ X線・粒子線(陽電子),領域10(誘電体格子欠陥,X線・粒子線フォノン))
• 23aWS-6 反射高速陽電子回折によるPt/Ge(001)表面の一次元原子鎖の構造解析(23aWS 表面界面構造(半導体),領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23pWL-3 スピン偏極陽電子と磁性電子の対消滅過程(23pWL 実験技術・磁性一般,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23pRH-9 高スピン偏極陽電子源の開発とスピン偏極率評価(23pRH 放射線物理(分析・計測),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 20pXB-8 陽電子誘起イオン脱離の観測
• 29pXJ-5 イオン照射した鉄の同時計数ドップラー幅測定
• 21pTG-7 エネルギーフィルター型反射高速陽電子回折装置の開発(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 25aYH-6 反射高速陽電子回折によるSn吸着Ge(111)表面の3×3-√×√相転移の研究(25aYH 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 25aYH-5 反射高速陽電子回折によるIn/Si(111)表面構造解析(25aYH 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 25pPSB-24 反射高速陽電子回折によるSi(111)-√×√-Ag表面構造相転移の研究II(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 30p-E-15 石英ガラス中の照射欠陥による陽電子捕獲
• 石英ガラス中の放射線照射によって生ずる陽電子捕獲欠陥
• 陽電子消滅およびESR測定法による石英ガラス中の照射欠陥の研究
• 30a-YK-8 陽電子消滅および電子スピン共鳴法による石英ガラスならびに水晶中の照射欠陥
• 21pWA-7 陽電子マイクロビームを用いたステンレス応力腐食割れ劣化の観察(21pWA X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 24pYF-12 酸化亜鉛中の電子線照射欠陥の同定(格子欠陥・ナノ構造(半導体),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 22pTC-7 陽電子マイクロプローブによるイメージング(領域10シンポジウム主題:X線・電子線による回折イメージングの最前線,領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 25pYK-8 高濃度ドープしたSiにおける熱平衡原子空孔の高温その場観測(格子欠陥・ナノ構造(半導体,理論,力学物性),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 27aRE-9 高機能型陽電子マイクロビーム装置の開発(27aRE X線・粒子線(陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 21aRB-4 陽電子消滅法を用いたイオンビーム照射による誘起構造の研究(21aRB 格子欠陥・ナノ構造(半導体・シミュレーション),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 19pXB-1 Si中のCuゲッタリングサイトの陽電子消滅(格子欠陥・ナノ構造(半導体・ナノ粒子・表面界面),領域10,誘導体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 26aYF-4 線形加速器による陽電子源を用いた透過型陽電子顕微鏡の開発(X線・粒子線(陽電子),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 21aTC-9 透過型陽電子顕微鏡における陽電子マイクロビーム源の開発(X線・粒子線(陽電子),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 20aXC-7 静磁場輸送陽電子ビームのマイクロビーム化(X線・粒子線(陽電子消滅),領域10,誘導体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 30p-YK-1 陽電子ビームによるSi中水素関与欠陥の挙動研究
• 陽電子消滅法による材料評価 (特集 放射線利用研究の最前線--放射線の新たな利用手法の開発)
• 30aPS-32 反射高速陽電子回折によるSi(111)-√×√-Ag表面構造解析II(30aPS 領域9ポスターセッション(表面,界面,結晶成長),領域9(表面・界面,結晶成長))
• 陽電子プローブマイクロアナライザーによる塑性変形した純鉄の空孔型欠陥マップ
• 27pGJ-11 ベータNMRによる^Cuの磁気モーメント測定(27pGJ 不安定核III,実験核物理領域)
• 28pTJ-7 陽電子消滅法によるシリカガラスとソーダライムガラスの空隙検出(28pTJ 格子欠陥・ナノ構造(金属・転位・点欠陥,領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 26aHE-2 スピン偏極陽電子消滅による磁性材料の研究について(26aHE 磁性一般・測定技術開発・フラストレーション系,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 27pTN-3 高スピン偏極陽電子線源の開発と低速陽電子ビーム発生(27pTN X線・粒子線(陽電子・電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 22aGQ-2 シリコン中銅不純物の挙動観測のための核プローブ開発(22aGQ 格子欠陥・ナノ構造(シリコン系材料),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 21aEB-5 H^+照射により照射欠陥及び水素同時注入したB2型FeAlの低速陽電子ビーム測定(21aEB 放射線物理(照射効果),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 21pHA-8 反射高速陽電子回折による歪み導入Sn/Ge(111)表面の構造解析(21pHA 表面界面構造(半導体),領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23pPSB-15 反射高速陽電子回折によるAg(111)薄膜表面上におけるBi原子の吸着位置の解析(23pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 21aGH-5 スピン偏極陽電子消滅による磁性材料の研究(21aGH 実験技術開発・磁性一般,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 21pEB-1 高スピン偏極低速陽電子ビームの開発と磁性体材料への応用(21pEB 放射線物理(表面・バルク),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 21aEB-4 粒子線照射したZrCuAlバルク金属ガラスの特性変化と内部構造(21aEB 放射線物理(照射効果),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 25aSA-4 スピン偏極陽電子消滅によるスピンホール効果の直接検出の試み(25aSA スピントロニクス(スピン流・スピンホール効果・スピン軌道相互作用),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 25pAF-14 スピン偏極陽電子消滅の基礎構築 : 希土類磁性体について(25pAF 酸化物磁性・化合物磁性・実験技術,領域3(磁性,磁気共鳴))
• Evaluation of Cu Contamination Induced Pit Failure and Improvement by Hydrogen Anneal and Epitaxial Growth
• 24aCC-2 反射高速陽電子回折を用いたPt/Ge(001)表面相転移の解析(24aCC 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 25aAB-7 高スピン偏極低速陽電子ビームによる高磁場下陽電子消滅測定(25aAB 放射線物理(放射線損傷・放射線計測),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 20pCC-5 スピン偏極陽電子消滅によるスピンホール効果の研究(20pCC スピントロニクス(スピン依存伝導),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 19aCC-7 スピン偏極陽電子消滅を用いたホイスラー合金Co_2MnSiの偏極率測定の試み(19aCC スピントロニクス(熱・力学的スピン・磁化制御),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 19pAJ-1 高スピン偏極陽電子源を用いた低速陽電子ビームの偏極率評価(19pAJ 放射線物理(放射線損傷・放射線計測・二次電子放出),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 20aFF-11 反射高速陽電子回折による歪導入した半導体表面における金属吸着超構造の研究(20aFF 領域9,領域10 合同招待講演,領域9(表面・界面,結晶成長)
• 29aXZB-6 KEK低速陽電子実験施設におけるビームライン整備と新しい測定装置(29aXZB 領域10,ビーム物理領域合同 X線・粒子線(電子線・陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 26aXZA-1 高輝度反射高速陽電子回折装置の開発と表面研究への応用(26aXZA 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 29aXZB-6 KEK低速陽電子実験施設におけるビームライン整備と新しい測定装置(29aXZB 領域10,ビーム物理領域合同 X線・粒子線(電子線・陽電子),ビーム物理領域)
• 29aXZB-3 高磁場下にある磁性体の陽電子消滅寿命測定(29aXZB 領域10,ビーム物理領域合同 X線・粒子線(電子線・陽電子),ビーム物理領域)
• 29aXZB-3 高磁場下にある磁性体の陽電子消滅寿命測定(29aXZB 領域10,ビーム物理領域合同 X線・粒子線(電子線・陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 26aKE-1 強磁性体の陽電子消滅寿命の外部磁場依存性(X線・粒子線(電子線・陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 27aJB-9 高輝度反射高速陽電子回折によるTiO_2(110)表面の構造解析(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 27aJB-1 全反射陽電子回折法による最表面原子配列の観測(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク