23aWS-5 反射高速陽電子回折によるアルカリ金属吸着Si(111)-√<3>×√<3>-B表面の相転移の研究(23aWS 表面界面構造(半導体),領域9(表面・界面,結晶成長))
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概要
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- 2010-08-18
著者
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深谷 有喜
原子力機構先端基礎研
-
河裾 厚男
原子力機構先端基礎研
-
河裾 厚男
(独)日本原子力研究開発機構・先端基礎研センター
-
河裾 厚男
日本原子力研究開発機構
-
河裾 厚男
日本原子力研究所高崎研究所
-
河裾 厚男
原子力機構 先端基礎研
-
深谷 有喜
(独)日本原子力研究開発機構・先端基礎研究センター
-
深谷 有喜
原子力機構・先端基礎研センター
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