C-13-3 円偏光照射によるキラルポリジアセチレンの形成とそのキラリティーに対する基板温度の効果(C-13.有機エレクトロニクス,一般セッション)
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-03-04
著者
-
間中 孝彰
東工大
-
岩本 光正
東工大
-
岩本 光正
東京工業大学電子物理工学科
-
間中 孝彰
東京工業大学
-
金 英輝
東京工業大学大学院理工学研究科
-
篠 竜徳
東京工業大学大学院理工学研究科
-
大嶋 優記
東京工業大学大学院理工学研究科
-
岩本 光正
東京工業大学
-
Iwamoto Mitsumasa
Tokyo Inst. Technol. Tokyo Jpn
-
Iwamoto Mitsumasa
Dept. Of Phys. Elec Tokyo Tech.
-
Motoji Toshiko
Tokyo Women's Medical University
-
Manaka Takaaki
Graduate School Of Science And Engineering Department Of Physical Electronics Tokyo Institute Of Tec
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