イオンビームスパッタZnS薄膜におけるO_2添加効果への不純物濃度の影響
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概要
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薄膜EL素子の発光層であるZnS(SmF_3:3wt%)薄膜を、スパッタガス(Ar)にO_2を混合したイオンビームスパッタ法により作製した結果についてはで報告した。ここでは、ターゲットの不純物(SmF_3)濃度が1wt%および5wt%の場合について検討したので以下に報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-09-26
著者
-
佐藤 知正
神奈川大学工学部
-
石川 武史
神奈川大
-
平手 孝士
神奈川大学工学部
-
佐藤 知正
神奈川大学 工学部 電気工学科
-
脇坂 信治
神奈川大
-
相上 信之
神奈川大
-
脇坂 信治
神奈川大学工学部電気工学科
-
相上 信之
神奈川大学工学部電気工学科
-
石川 武史
神奈川大学工学部電気工学科
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