Al/Y_2O_3/ZnS(Sm,F)/Al/Y_2O_3/ITO積層構造の初期Q-V特性へのフォーミング処理の効果
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概要
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題記の薄膜積層構造における, その初期Q-V特性での特異な過渡特性に対する電気的フォーミング処理の影響について検討したので以下に報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-06
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