化学溶液堆積(CSD)法による強誘電体薄膜の作製と電子線誘起反応プロセスによるその微細加工
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概要
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CSD法をベースとした電子線誘起反応微細加工プロセスにおいて、電子線照射により前駆体薄膜が有機溶剤に不溶となるメカニズムをFT-IR等により検討し、前駆体中のカルボキシレートが分解し、金属原子が親油基を失って膜中に残存するためと結論づけた。また、これまで作製したパターンや1回塗りの薄膜がほとんど導通状態となる一因がマイクロクラックであることを突き止め、そのマイクロクラックを解消するフィリングプロセスを提案して特性の改善を図った。フィリングプロセスは薄膜において著しい効果を示した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-02-15
著者
-
塩嵜 忠
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
-
塩嵜 忠
奈良先端大物質科
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岡村 総一郎
奈良先端大物質創成
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岡村 総一郎
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
-
Shiosaki Tadashi
Research Development Division Sakai Chemical Industry Co. Ltd.
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