高周波マグネトロンスパッタリング法を用いた低誘電性有機薄膜の作製
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概要
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電気絶縁性に優れた有機薄膜を得るために, ポリテトラフルオロエチレンもしくはポリイミドをターゲットに用いたスパッタリングを行い, 放電ガス中のCF_4もしくはN_2濃度が薄膜の構造や誘電特性に与える影響について検討した.その結果, PTFEターゲットをスパッタして得られた薄膜の誘電率は, CF_4濃度の増加に伴う薄膜中のF/C比の増加とともに減少することが分かった.また, ポリイミドターゲットをスパッタして得られた薄膜の誘電率は, 低いN_2濃度では薄膜中のイミド基により低い値を示したが, 高いN_2濃度ではイミド基の分解によるアミド基の増加により増加することが分かった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-10-19
著者
-
草野 英二
金沢工業大学
-
草野 英二
金沢工業大学・高度材料科学研究開発センター
-
草野 英二
金沢工大 高度材料科学研開セ
-
金原 粲
東京大学生産技術研究所
-
菊地 直人
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
林 利江
金沢工業大学高度材料科学研究開発センター
-
菊地 直人
金沢工業大学AMS R&D C
-
金原 粲
金沢工業大学AMS R&D C
-
南戸 秀人
金沢工業大学高度材料科学研究開発センター
-
南戸 秀仁
金沢工業大学・工学研究科
-
金原 粂
金沢工業大学・高度材料科学研究開発センター
-
金原 粲
金沢工業大学
-
菊地 直人
金沢工業大学 A MSR & DC
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