多層構造薄膜のナノインデンテーション
スポンサーリンク
概要
著者
-
草野 英二
金沢工業大学
-
草野 英二
金沢工業大学・高度材料科学研究開発センター
-
金原 粲
東京大学生産技術研究所
-
菊地 直人
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
菊地 直人
金沢工業大学AMS R&D C
-
金原 粲
金沢工業大学AMS R&D C
-
金原 粲
金沢工業大学
-
菊地 直人
金沢工業大学 A MSR & DC
関連論文
- 真空・薄膜徒然草(3)
- 高周波プラズマ支援スパッタリング法によるインジウム-スズ酸化物(ITO)薄膜の構造および物性制御
- 真空・薄膜徒然草 3
- 真空・薄膜徒然草 2
- 応用物理学会と歩んだ半世紀
- 「つくる、評価する、考える」を実践するものづくり教育 -スパッタリング法による半導体薄膜作製・評価実験-
- 真空・薄膜徒然草(5)
- 多層構造薄膜のナノインデンテーション法による評価 (特集/ニューガラス)
- VUV/XUV領域の高次高調波計測のための蛍光体発光特性評価(電子ディスプレイ)
- (149)つくる,評価する,考えるを実践する「ものづくり」教育 : スパッタリング法による半導体薄膜作製・評価実験(セッション43 教育システムB(実技)VII)
- プラズマ重合分子認識膜を有するQCMガスセンサ
- アルミナ高周波窓へのTiN薄膜コーティング
- スパッタリング成膜における薄膜構造制御
- ポリイミド・ターゲットのスパッタリングによる薄膜作製
- ポリテトラフルオロエチレン/金属系多層薄膜における界面エネルギーの内部応力と硬さに与える影響
- 高周波マグネトロンスパッタリング法を用いた低誘電性有機薄膜の作製
- Al/TiN多層薄幕の微小押し込み硬さ試験によるエネルギー的解析
- タッチパネル用SnO_2:Nb透明導電性薄膜の作製とその評価
- 大気圧空気バリア放電における駆動周波数とバリア層の静電容量の比の適正化
- 大気圧バリア放電におけるコロナ-グロー混在状態の定量評価
- 多層膜の応力
- ポリイミドフィルムのスパッタリングにおける放電ガスへのN_2の添加効果
- スパッタリング用プラズマ
- TiスパッタリングにおけるTiのイオン分率
- 組成変調型多層構造薄膜における高強度化機構の実験的検証
- Al, Cu-TiN薄膜の押し込み試験における変形への多層化の影響
- 微小押し込み硬さ試験によるAl/TiNおよびCu/TiN二層薄膜の変形挙動の検討
- 二元交互スパッタリング法を用いたTiC-C系多層薄膜の作製
- 多層構造薄膜のナノインデンテーション
- 薄膜の付着評価法 (特集1 試験・測定技術)
- 組成変調したTi-TiN多層薄膜における高強度化機構
- Al/TiN2層薄膜の微小押し込み硬さ試験におけるエネルギー散逸
- 真空・薄膜徒然草1
- 真空・薄膜徒然草2
- 「スパッタリング技術の進展と今後への期待」小特集号に寄せて
- 反応性スパッタリングによるセラミックス薄膜の作製
- 201 Cu薄膜の真性応力におよぼす基板の表面エネルギーの影響(薄膜の応力測定,残留応力の評価と強度,オーガナイスドセッション3,第53期学術講演会)
- 302 Cu薄膜の機械的性質および残留応力の評価(機能性材料の残留応力評価)(残留応力の評価と適用)(オーガナイスドセツション2)
- 分子認識膜を有する表面プラズモン共鳴ガスセンサの開発(センサー・一般)
- P1-55 SPR味およびQCM匂い複合センサによる日本酒の甘辛口の識別
- SPR味センサと半導体式においセンサを用いた酢の品質判定
- 入学学生の多様化と進路先の多様化をつなぐ工学・工業教育のあり方 -進路指導担当者からみた新しい時代の工学・工業教育-
- スパッタ法によって作製した硼化ランタン薄膜の組成と物性
- 表面プラズモン共鳴化学センサの酢に対する応答特性
- 表面プラズモン共鳴化学センサを利用した日本酒の種類判別
- 物性制御システムコアにおける工学専門実験(2)テーマ統合による8週間を使った工学専門実験授業
- 組成変調したTiN-Ti多層薄膜の構造と硬さおよび内部応力
- 組成傾斜構造とAr圧がZrN/Zr/ZrO_2とZrN/ZrO_2膜の硬さ及び付着力に与える影響
- 固体炭素源を用いた反応性スパッタリング法によるTiC膜の作製
- 固体炭素源を用いた反応性スパッタリング法によるTiC膜の作製
- 高周波プラズマ支援マグネトロンスパッタリングにおける粒子のエネルギー分布
- 組成変調を持つTi-TiN多層構造薄膜のナノインデンテーション法による硬さの評価
- 組成傾斜構造をもつZrn/Zr/ZrO_2とTiN/Ti/TiO_2膜の付着力と硬さの評価
- 固体表面上の薄膜の付着および内部応力測定 (ドライプロセスによる機能材料の創製)
- 高周波プラズマ支援スパッタリング法によるTi薄膜の構造および物性制御
- 第1回スパッタリングおよびプラズマプロセス国際シンポジウム(ISSP′91)を開催して
- 低出力Arイオン照射前処理によるTi薄膜/Si基板間の密着性の改善
- 酸化物半導体薄膜ガスセンサを用いた魚の鮮度判定
- Al/TiN多層薄膜の微小押し込み硬さ試験におけるエネルギー散逸
- 固体炭素源を用いた2元交互スパッタリングによるTiC薄膜の作製
- 高周波支援マグネトロンスパッタリング法におけるAr^+及びTi^+のエネルギー分布のAr圧力依存性
- 高周波支援マグネトロンスパッタリング法におけるAr^+及びTi^+のエネルギー分布のコイル自己バイアス依存性
- 高周波支援マグネトロンスパッタリング法におけるAr^+及びTi^+のエネルギー分布のカソード電力依存性
- 電荷-電圧リサージュ法と表面電荷図形法を併用したコロナ-グロー放電遷移特性の評価
- ITO薄膜のキャリア輸送現象に対するフォノン散乱の寄与
- 水晶振動子式ガスセンサの機能設計
- 真空・薄膜徒然草4
- 真空・薄膜徒然草3
- PVD法による薄膜作製技術の歴史と展望
- スパッタリング法によるカーボンナノフレークの形成
- スパッタリング法の変遷
- インテリジェント匂い及び味センサシステムの開発と食品感性計測への応用
- 酸素クラスタとガスセンサアレイを組み合わせた脱臭モニタリング
- プラズマCVD法で作製した分子認識膜を持つ水晶振動子式ガスセンサ
- SPR化学センサの酢に対する応答
- プラズマ有機薄膜を分子認識膜に用いた水晶振動子式ガスセンサ : 水晶振動子式アンモニアガスセンサ
- OME2000-95 プラズマ有機薄膜を分子認識膜に用いた水晶振動子式ガスセンサ : 水晶振動子式アンモニアガスセンサ
- サマリー・アブストラクト
- サマリー・アブストラクト
- サマリー・アブストラクト
- 真空・薄膜徒然草6
- 真空・薄膜徒然草5
- 大電力用高周波窓でのマルチパクタ現象
- 大電力用高周波窓の破壊現象と物性との関連
- 本学会創立60周年を迎えて
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定 (2)
- TiN/アルミナの二次電子放出
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定
- 複合膜の付着力測定
- 銀蒸着膜の付着力に及ぼすイオン照射効果 (2)
- Siウエハー表面酸化層の厚さがAg蒸着膜の付着力に及ぼす効果
- RHEEDによるPb/Si (111) 表面超構造の研究
- コ-ティングの内部応力 (核融合装置における第一壁の諸問題)
- 真空・薄膜徒然草9
- 真空・薄膜徒然草8
- RF-sputtering で作製された炭素薄膜の作製条件と光学定数, 比抵抗, 付着力
- TiCコ-ティングのヤング率と内部応力 (「低Zコ-ティング膜のキャラクタライゼ-ションワ-クショップ」「プラズマ・壁相互作用に関する研究会」報告) -- (表面被膜の残留応力)
- イメージングプレートの輝尽発光メカニズムとフェーディング特性
- 紫外線励起したSrS:Eu, Sm蛍光体の輝尽発光メカニズム
- 走査型プローブ顕微鏡による薄膜表面粗さ測定のJIS化