Siウエハー表面酸化層の厚さがAg蒸着膜の付着力に及ぼす効果
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 真空・薄膜徒然草(3)
- 真空・薄膜徒然草 3
- 真空・薄膜徒然草 2
- 応用物理学会と歩んだ半世紀
- 真空・薄膜徒然草(5)
- アルミナ高周波窓へのTiN薄膜コーティング
- ポリテトラフルオロエチレン/金属系多層薄膜における界面エネルギーの内部応力と硬さに与える影響
- 高周波マグネトロンスパッタリング法を用いた低誘電性有機薄膜の作製
- Al/TiN多層薄幕の微小押し込み硬さ試験によるエネルギー的解析
- タッチパネル用SnO_2:Nb透明導電性薄膜の作製とその評価
- 大気圧空気バリア放電における駆動周波数とバリア層の静電容量の比の適正化
- 大気圧バリア放電におけるコロナ-グロー混在状態の定量評価
- 多層膜の応力
- ポリイミドフィルムのスパッタリングにおける放電ガスへのN_2の添加効果
- スパッタリング用プラズマ
- TiスパッタリングにおけるTiのイオン分率
- 組成変調型多層構造薄膜における高強度化機構の実験的検証
- Al, Cu-TiN薄膜の押し込み試験における変形への多層化の影響
- 微小押し込み硬さ試験によるAl/TiNおよびCu/TiN二層薄膜の変形挙動の検討
- 二元交互スパッタリング法を用いたTiC-C系多層薄膜の作製
- 多層構造薄膜のナノインデンテーション
- 薄膜の付着評価法 (特集1 試験・測定技術)
- 組成変調したTi-TiN多層薄膜における高強度化機構
- Al/TiN2層薄膜の微小押し込み硬さ試験におけるエネルギー散逸
- 真空・薄膜徒然草1
- 高周波放電電極上の自己バイアス電位分布の研究
- 真空・薄膜徒然草2
- 分子認識膜を有する表面プラズモン共鳴ガスセンサの開発(センサー・一般)
- スパッタ法によって作製した硼化ランタン薄膜の組成と物性
- 表面プラズモン共鳴化学センサの酢に対する応答特性
- 表面プラズモン共鳴化学センサを利用した日本酒の種類判別
- 組成変調したTiN-Ti多層薄膜の構造と硬さおよび内部応力
- 固体表面上の薄膜の付着および内部応力測定 (ドライプロセスによる機能材料の創製)
- Al/TiN多層薄膜の微小押し込み硬さ試験におけるエネルギー散逸
- TiO_2 上の高密着力・高純度 Pt 薄膜の形成
- 高周波支援マグネトロンスパッタリング法におけるAr^+及びTi^+のエネルギー分布のAr圧力依存性
- 高周波支援マグネトロンスパッタリング法におけるAr^+及びTi^+のエネルギー分布のコイル自己バイアス依存性
- 高周波支援マグネトロンスパッタリング法におけるAr^+及びTi^+のエネルギー分布のカソード電力依存性
- 水晶振動子式ガスセンサの機能設計
- 真空・薄膜徒然草4
- 真空・薄膜徒然草3
- PVD法による薄膜作製技術の歴史と展望
- スパッタリング法によるカーボンナノフレークの形成
- スパッタリング法の変遷
- インテリジェント匂い及び味センサシステムの開発と食品感性計測への応用
- 酸素クラスタとガスセンサアレイを組み合わせた脱臭モニタリング
- プラズマCVD法で作製した分子認識膜を持つ水晶振動子式ガスセンサ
- SPR化学センサの酢に対する応答
- プラズマ有機薄膜を分子認識膜に用いた水晶振動子式ガスセンサ : 水晶振動子式アンモニアガスセンサ
- OME2000-95 プラズマ有機薄膜を分子認識膜に用いた水晶振動子式ガスセンサ : 水晶振動子式アンモニアガスセンサ
- 真空・薄膜徒然草6
- 真空・薄膜徒然草5
- 大電力用高周波窓でのマルチパクタ現象
- 大電力用高周波窓の破壊現象と物性との関連
- 本学会創立60周年を迎えて
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定 (2)
- TiN/アルミナの二次電子放出
- 放電処理PTFE上のAu蒸着膜の付着力測定
- 複合膜の付着力測定
- 銀蒸着膜の付着力に及ぼすイオン照射効果 (2)
- Siウエハー表面酸化層の厚さがAg蒸着膜の付着力に及ぼす効果
- RHEEDによるPb/Si (111) 表面超構造の研究
- カーボニゼーションが及ぼす水素リサイクリング現象への効果
- 炭素系薄膜の光学定数
- TiN/アルミナセラミックのAES及びELS測定
- アルミナ高周波窓の二次電子放出及びカソードルミネセンス (2)
- アルミナ高周波窓の二次電子放出及びカソードルミネセンス
- 超高真空装置を用いてのTiNスパッタ膜の製作
- アブストラクト
- コ-ティングの内部応力 (核融合装置における第一壁の諸問題)
- 金属蒸着膜の電気抵抗の時間変化
- 金属蒸着膜の付着力測定 (V)
- 金属蒸着膜の付着力測定 (IV)
- 金属蒸着膜の付着力測定 (III)
- 銀蒸着膜の付着力に及ぼすイオン照射効果
- 金属蒸着膜の付着力測定 (II)
- 金属蒸着膜の付着力測定
- 非晶質ゲルマニウム薄膜の内部応力, ヤング率
- 真空・薄膜徒然草9
- 真空・薄膜徒然草8
- 角度分解低速電子エネルギー損失分光法によるIn/Si (111) 表面超構造の研究
- RF-sputtering で作製された炭素薄膜の作製条件と光学定数, 比抵抗, 付着力
- 固体表面上の薄膜の付着および内部応力測定
- 金蒸着膜の熱膨脹
- クライオポンプを用いた蒸着装置
- 誘電体薄膜の構造及び特性に与えるイオンビーム照射の効果
- TiCコ-ティングのヤング率と内部応力 (「低Zコ-ティング膜のキャラクタライゼ-ションワ-クショップ」「プラズマ・壁相互作用に関する研究会」報告) -- (表面被膜の残留応力)
- 真空・薄膜徒然草11
- 真空・薄膜徒然草10
- 真空・薄膜徒然草12
- 真空・薄膜徒然草14
- 真空・薄膜徒然草13
- 真空・薄膜徒然草7
- 真空・薄膜徒然草18
- 真空・薄膜徒然草 15
- 真空・薄膜徒然草 17
- 真空・薄膜徒然草16
- 真空・薄膜徒然草 20
- 真空・薄膜徒然草20
- 真空・薄膜徒然草19