スパッタ法によるA-Al_2O_3上ZnO薄膜の平坦化成長(電子部品・材料,及び一般)
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概要
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マグネトロンスパッタ法によりA-Al_2O_3基板上へ作製したZnO薄膜の表面性状,結晶性における成膜時の基板温度およびZnO薄膜への熱処理効果について調べた.as-grownZnO薄膜では,基板温度が450℃において表面粗さが30Å程度.また熱処理においては,熱処理温度が900℃熱処理時間が2時間の熱処理により,14Åで平坦かつ結晶性の良い薄膜がえられた.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-07-30
著者
-
道上 修
岩手大
-
太田 靖之
岩手大
-
越後谷 淳一
岩手大学工学部附属金属材料保全工学研究センター
-
道上 修
岩手大学工学部
-
長谷部 博昭
岩手大学工学部
-
太田 靖之
岩手大学工学部
-
橋本 健男
岩手大学工学部
-
越後谷 淳一
岩手大学工学部マテリアル工学科
-
水島 智教
岩手大学工学部
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