対向ターゲットマグネトロンスパッタ法を用いた大型超伝導薄膜に対する熱処理の効果
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概要
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対向ターゲットマグネトロンスパッタ法を用いて、R-Al_2O_3基板にCeO_2を堆積した薄膜上にSmBa_2Cu_3O_<7-δ>薄膜を作製し、作製後に純酸素雰囲気中で熱処理を施し高品質化を図った。その結果、400℃で熱処理することで結晶性と超伝導特性が向上した。またR-Al_2O_3基板上に堆積したCeO_2バッファ層を大気中で熱処理(800℃で2h)し、CeO_2薄膜上にSmBa_2Cu_3O_<7-δ>薄膜を堆積させ、作製後に純酸素雰囲気中で400℃の温度で熱処理を行った。それにより、基板中心で11.712Åで基板中心から40mm離れた箇所で11.720Åとφ10cm以上の大型基板でも均一な膜厚分布でかつ良質な薄膜を作製することができた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-07-31
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