ケミカルバス法によるZnO薄膜の堆積(薄膜プロセス・材料,一般)
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概要
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ケミカルバス(CBD)法によるガラス基板へのZnO薄膜堆積は難しいと言われてきた。そこで、ガラス基板を溶液に浸す回数と時間、および熱処理の有無と温度をパラメータにしてCBD法によるZnO薄膜作製を試みた。基板を溶液に浸すだけではその後の熱処理の有無に関係なくZnO薄膜は得られなかったが、1回浸した後に200℃以上の温度で熱処理を行い、再度溶液に浸すとZnOとZn(OH)_2が混在する膜が得られた。更にこれを200℃以上で熱処理すると、Zn(OH)_2が消滅しZnOだけの薄膜が得られた。この方法により、膜厚0.5〜1.3μmで配向性がよく透明なウルツ鉱型のZnO薄膜を得ることができた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-11-04
著者
-
金子 双男
新潟大学大学院自然科学研究科
-
坪井 望
新潟大学工学部
-
金子 双男
新潟大学超域研究機構:新潟大学大学院自然科学研究科
-
金子 双男
新潟大学工学部
-
坪井 望
新潟大学工学部機能材料工学科
-
小林 敏志
新潟大学工学部
-
大島 浩平
新潟大学大学院自然科学研究科
-
土屋 裕之
新潟大学工学部
-
坪井 望
新潟大 工
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