小林 敏志 | 新潟大学工学部
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概要
関連著者
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小林 敏志
新潟大学工学部
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金子 双男
新潟大学大学院自然科学研究科
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金子 双男
新潟大学超域研究機構:新潟大学大学院自然科学研究科
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金子 双男
新潟大学工学部
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Kato K
Shizuoka Johoku Senior High School Shizuoka Jpn
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坪井 望
新潟大学工学部
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坪井 望
新潟大学工学部機能材料工学科
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Kato Ken-ichi
Department Of Electrical Engineering Faculty Of Engineering Osaka City University
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金子 双男
新潟大学超域研究機構
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加藤 景三
新潟大学工学部
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新保 一成
新潟大学超域研究機構
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加藤 景三
新潟大学超域研究機構
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若松 孝
茨城工業高等専門学校
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新保 一成
新潟大学工学部電気電子工学科
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小林 敏志
新潟大
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大石 耕一郎
長岡工業高等専門学校
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新保 一成
新潟大・工
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金子 双男
新潟大・工
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加藤 景三
新潟大
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坪井 望
新潟大 工
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馬場 暁
新潟大学超域研究機構
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馬場 暁
新潟大学
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Kato K
Nippon Telegraph And Telephone Corp. Tokyo Jpn
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川上 貴浩
新潟大学工学部
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若松 孝
茨城高専
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本多 章作
新潟大学工学部
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本多 章作
新潟大学
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牧野 彰宏
アルプス電気
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清水 英彦
新潟大 工
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近藤 祐介
新潟大学工学部電気電子工学科
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伊藤 雄二
新潟大学大学院自然科学研究科
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竹石 剛
新潟大
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加藤 景三
新潟大学
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片桐 裕則
長岡工業高等専門学校 電気工学科
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片桐 裕則
長岡工業高等専門学校
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大島 浩平
新潟大学大学院自然科学研究科
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土屋 裕之
新潟大学工学部
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太田 新一
日本精機株式会社R&Dセンター
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瀬賀 寿幸
新潟大学大学院自然科学研究科
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田所 豊康
日本精機株式会社r&dセンター
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小出 任子
新潟大学工学部
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太田 新一
日本精機株式会社r&dセンター
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深海 徹夫
新潟大
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片桐 裕則
長岡工高専
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水嶋 隆夫
新潟大学大学院自然科学研究科
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片桐 裕則
長岡工業高専
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アドビンクラ リゴベルト
ヒューストン大学化学科
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清水 英彦
新潟大学工学部電気電子工学科
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加藤 景三
新潟大学大学院自然科学研究科
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石川 淳
新潟大学
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Advincula R.C.
アラバマ大
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渡辺 光弘
新潟大学工学部電気電子工学科
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山口 拓也
新潟大学大学院自然科学研究科
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荒木 秀明
長岡工業高等専門学校
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高橋 良和
日本アイ・ビー・エム野洲事業所半導体パッケージ製品技術
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渡邉 玲
新潟大学大学院自然科学研究科
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馬場 暁
新潟大学工学部電気電子工学科
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高橋 良和
新潟大学大学院自然科学研究科
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竹石 剛
新潟大学工学部電気電子工学科
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小林 明彦
新潟大学工学部
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新保 一成
新潟大学 大学院自然科学研究科
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山口 和也
新潟大学大学院自然科学研究科
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紺谷 忠司
新潟大学工学部電気電子工学科
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坪井 望
新潟大学大学院自然科学研究科
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上條 和隆
新潟大学大学院自然科学研究科
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蛭田 賢和
新潟大学大学院自然科学研究科
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島田 聡郎
長岡工業高等専門学校
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神保 和夫
長岡工業高等専門学校
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吉田 理
長岡工業高等専門学校
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山崎 誠
長岡工業高等専門学校
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小方 淳也
新潟大学大学院自然科学研究科
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坪井 望
新潟大学超域研究機構
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清水 英彦
新潟大学超域研究機構
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鈴木 慶介
新潟大学工学部
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田所 豊康
日本精機株式会社R&Dセンター
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計良 忍
新潟大学大学院自然科学研究科
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渡辺 将人
新潟大学大学院自然科学研究科
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松田 茂
新潟大学大学院自然科学研究科
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倉沢 正樹
新潟大学大学院自然科学研究科
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本郷 徳志
新潟大学工学部
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金子 双男
長岡工業高等専門学校
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太田 新一
日本精機R&Dセンター
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田所 豊康
日本精機R&Dセンター
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Kato K
Dept. Of Materials Science And Engineering National Defense Academy
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清水 英彦
新潟大学工学部
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小林 康之
新潟大学工学部
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于 丹陽
新潟大学工学部
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M.M. サリナント
東京工業大学
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橋本 孝
新潟大学工学部
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渡辺 和寿
新潟三洋電子
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Advincula Rigoberto
アラバマ大
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齊木 仁
新潟大
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齊木 仁
新潟大学工学部
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深海 徹夫
新潟大学工学部電気電子工学科
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立山 敦之
新潟大
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浦野 裕司
新潟大学工学部電気電子工学科
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金子 双男
新潟大学
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小林 敏志
新潟大学工学部電気電子工学科
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新保 一成
新潟大学
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新保 一成
新潟大学大学院自然科学研究科・超域学術院
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神保 和夫
長岡工業高専
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金子 双男
新潟大学超域学術院、大学院自然科学研究科
著作論文
- 厚いセル内のLB膜上液晶分子の全反射減衰法による評価
- 銅フタロシアニンLB膜の膜構造とNO_2ガス応答
- 対向ターゲット式反応性スパッタ法によるCuAlO_2薄膜の作製と評価
- 銅フタロシアニンLB膜素子の構造とNO_2ガス電流応答特性
- 反応性スパッタ法によるCuInS_2薄膜の作製と評価(薄膜プロセス・材料,一般)
- ケミカルバス法によるZnS薄膜の作製 : 膜厚の制御(薄膜プロセス・材料,一般)
- ケミカルバス法によるZnS薄膜の作製 : ヒドラジン一水和物添加の効果(薄膜プロセス・材料, 一般)
- 溶融法によるCu_2ZnSnS_4結晶の作製(薄膜プロセス・材料, 一般)
- 対向ターゲット式反応性スパッタ法によるCu-Al-O薄膜の作製と熱処理効果(薄膜プロセス・材料,一般)
- 25pB11 2元真空蒸着法によるSi(100)へのZnSのエピタキシャル成長(半導体エピ(3),第34回結晶成長国内会議)
- ケミカルバス法によるZnO薄膜の堆積(薄膜プロセス・材料,一般)
- ケミカルバス法によるZnO薄膜の堆積
- フラーレン層挿入によるナノ界面制御有機EL素子の作製と諸特性
- CS_2ガスを用いた反応性スパッタ法によるCuInS_2薄膜の組成制御
- 3元蒸着法によるSi基板上へのCuInS_2薄膜成長
- 太陽電池に向けたSi基板上CuInS_2薄膜の検討
- CuInS_2-CuIn_5S_8系薄膜の構造評価
- 非線形光学結晶Ag(AlGa)S_2のGaAs基板上でのエピタキシャル成長
- CuGaS_2薄膜の配向評価
- 原子層エピタキシー成長したCdS/ZnS超格子の構造評価
- PAa05 全反射減衰法によるアゾ色素を含む交互吸着膜上液晶分子の光配向特性評価
- ZnS エピタキシャル成長に及ぼす Ag 添加の影響
- シアニン色素吸着アゾベンゼンLB膜の電気特性
- 反応性スパッタ法によるCuInS_2薄膜の作製
- ATR法によるシアニン色素吸着アゾベンゼンLB膜の光学特性の評価
- 全反射減衰法によるポリイミドLB配向膜上液晶層の評価
- ATR法によるポリイミドLB膜上液晶分子のチルト角の評価
- 3PB07 全反射減衰法によるLB膜上液晶分子の配向評価
- スプレー法によるCuInS_2薄膜の作製[III]
- スプレー法によるCuInS_2薄膜の作製(I)
- 銀薄膜上のLB膜の全反射減衰法による測定
- 全反射減衰法によるシアニン色素吸着アゾベンゼンLB膜の光学特性と熱処理特性の評価
- クリスタルバイオレット吸着アラキジン酸LB膜の光・電気特性
- 全反射減衰法による金属薄膜上のアラキジン酸カドミウム塩LB超薄膜の構造評価
- シアニン色素吸着LB膜における電気伝導および熱刺激電流特性
- LB超薄膜の構造とATR特性
- シアニン色素吸着ホスファチジン酸L膜,LB膜の分子凝集状態と光特性
- 温度こう配残留電圧による絶縁体中の注入トラップ電荷の極性判定と分布測定
- 残留電圧を利用した絶縁体中のトラップ電荷の新しい測定法
- 架橋ポリエチレンのイオン空間電荷分極による残留電圧
- カルコパイライト型半導体と発光デバイスへの応用
- MnZn多結晶フェライトの磁気特性に及ぼすEr2O3添加効果
- MnZn単結晶フェライトの磁気特性に及ぼす希土類金属酸化物添加効果