分光エリプソメトリー及びエネルギー可変陽電子消滅法によるシリカスパッタ薄膜の細孔構造解析
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概要
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Nanopore structure of silica thin films prepared by magnetron sputtering under various conditions was investigated by spectroscopic ellipsometry and variable-energy positron annihilation. Film overall porosity, evaluated by ellipsometry, was found to decrease, asymptotically to zero, with decreasing argon pressure and film thickness. This result is in qualitative agreement with our oxygen gas permeability data of silica films on polymeric substrate. Positron annihilation showed that nanometer-size pores were present in films prepared at an argon pressure of 1.5 Pa, whereas subnanometer-size pores were present in films prepared at an argon pressure of 0.25 Pa. In both cases, the pore sizes were decreased with decreasing film thickness.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 2004-06-01
著者
-
佐藤 公法
東京学芸大学環境科学分野
-
鈴木 良一
産総研
-
大平 俊行
産総研
-
大平 俊行
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
-
鈴木 良一
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
-
小林 慶規
産総研計測標準
-
鈴木 良一
産業技術総合研究所
-
小林 慶規
産業技術総合研究所
-
佐藤 公法
学芸大環境科学
-
富樫 寿
独立行政法人産業技術総合研究所
-
道田 泰子
独立行政法人産業技術総合研究所
-
伊藤 賢志
産業技術総合研究所
-
于 潤升
産業技術総合研究所
-
平田 浩一
産業技術総合研究所
-
富樫 寿
産業技術総合研究所
-
佐藤 公法
産業技術総合研究所
-
伊藤 賢志
産総研企画本部
-
平田 浩一
産総研計測標準
-
道田 泰子
産業技術総合研究所
-
大平 俊行
産業総合技術研究所計測フロンティア研究部門
-
小林 慶規
産総研
-
小林 慶規
独立行政法人 産業技術総合研究所 計測標準研究部門
-
大平 俊行
産業技術総合研究所
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