光源とシリコンマイクロレンズの高精度実装技術(光パッケージ技術)(<特集>光回路実装技術の現状と今後 : ブロードバンド時代を迎えて)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人エレクトロニクス実装学会の論文
- 2002-08-01
著者
-
志村 大輔
沖電気工業株式会社研究開発本部
-
和田 浩
沖電気工業株式会社オプティカルコンポーネントカンパニー
-
和田 浩
沖電気工業(株)
-
和田 浩
沖電気工業
-
小谷 恭子
沖電気工業株式会社デバイス技術研究所
-
高森 毅
沖電気工業(株)研究開発本部
-
佐々木 浩紀
沖電気工業研究開発本部
-
上川 真弘
沖電気工業株式会社シリコンマイクロデバイスカンパニー
-
志村 大輔
沖電気工業研究開発本部
-
高森 毅
沖電気工業研究開発本部
-
高森 毅
沖電気工業(株):半技研
-
前野 仁典
沖電気工業株式会社
-
上川 真弘
沖電気工業研究開発本部
-
佐々木 浩紀
沖電気工業株式会社研究開発センタ
-
志村 大輔
沖電気工業株式会社研究開発センタ
-
前野 仁典
沖電気工業 (株) 基盤技術研究所
関連論文
- アイソレータフリーモジュール用1.3μm利得結合型DFBレーザの反射戻り光耐性(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,及び一般)
- シリコンマイクロレンズを用いた光集積素子の開発(高密度実装プロセス要素技術,先端電子デバイスパッケージと高密度実装プロセス技術の最新動向論文)
- 40Gb/s用EA変調器集積DFBレーザモジュール
- 光通信用半導体疑似位相整合波長変換素子
- 光通信用半導体疑似位相整合波長変換素子
- アイソレータフリーモジュール用1.3μm利得結合型DFBレーザの反射戻り光耐性(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,及び一般)
- 直接接合法による SiO_2 膜電流狭窄型半導体レーザ
- シリコンマイクロレンズを用いたワンチップ光送受信光集積チップ(μBOSA)の開発(光部品の実装・信頼性,一般)
- シリコンマイクロレンズを用いたワンチップ光送受信光集積チップ(μBOSA)の開発(光部品の実装・信頼性,一般)
- シリコンマイクロレンズを用いたワンチップ光送受信光集積チップ(μBOSA)の開発(光部品の実装・信頼性,一般)
- シリコンレンズを用いた双方向光通信モジュール用μBOSAチップ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- シリコンレンズを用いた双方向光通信モジュール用μBOSAチップ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- シリコンレンズを用いた双方向光通信モジュール用μBOSAチップ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- シリコンレンズを用いた双方向光通信モジュール用μBOSAチップ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- シリコンレンズを用いた双方向光通信モジュール用μBOSAチップ
- シリコンレンズを用いた双方向光通信モジュール用μBOSAチップ
- シリコンレンズを用いた双方向光通信モジュール用μBOSAチップ
- C-3-97 Siレンズを用いた低価格双方向光通信モジュール用BOSAチップ(アクティブモジュール,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-100 シリコンマイクロレンズ(SiLens)を搭載した超小型光アセンブリの光学特性(光受動部品)(C-3.光エレクトロニクス)
- シリコンマイクロレンズを用いた光モジュール
- C-3-104 シリコンマイクロレンズを用いた超小型光サブアセンブリ
- C-3-28 低価格レーザモジュール用マイクロレンズ2
- 光源とシリコンマイクロレンズの高精度実装技術(光パッケージ技術)(光回路実装技術の現状と今後 : ブロードバンド時代を迎えて)
- 低価格レーザモジュール用シリコンマイクロレンズ
- 低価格レーザモジュール用シリコンマイクロレンズ
- 低価格レーザモジュール用シリコンマイクロレンズ
- C-3-57 低価格レーザモジュール用マイクロレンズ
- 自由空間を用いたボード内光インターコネクション
- 平板光学基板と光素子集積型LSIとを用いたチップ間光インタコネクション
- 光電子集積化技術と回折光学素子を用いたチップ間光インターコネクション
- 光学基板によるチップ間自由空間光配線
- チップ間光配線用平板光学素子光回路(光回路実装技術)
- 平板光学素子を用いた平面実装型チップ間自由空間光配線
- 平板光学素子を用いた平面実装型チップ間自由空間光配線
- 平板光学素子を用いた平面実装型チップ間自由空間光配線
- 平板光学素子を用いた平面実装型チップ間自由空間光配線
- 回折光学素子を用いたチップ間光配線用光回路 (MES'99 第9回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集) -- (光実装)
- MOCVD選択成長による4波多重DBRレーザアレー
- シリコンマイクロレンズの開発 (ネットワーク特集)
- 熱磁気プリンタ用垂直磁気記録媒体の開発
- Co/Pd多重構造多層膜の磁気特性と膜構造解析
- 3)Film Structure and Magnetic Properties of Multilayered Co/Au Films
- 光磁気ディスク用高屈折率保護膜BaTiON(光ディスク記録)
- 5)高屈折率スパッタ膜BaTiON(画像情報記録研究会)
- 高屈折率スパッタ膜BaTiON : 画像情報記録
- 3)AlSiNおよびAlSiON膜の構造と特性(画像情報記録研究会)
- AlSiN及びAlSiON膜の構造と特性
- 4)合金ターゲットによるTbFeCoスパッタ膜の形成(録画研究会)
- 合金ターゲットによるTbFeCoスパッタ膜の形成
- 1.3μm帯AlGaInAs/InP MQWレーザの高温度特性
- 直接ボンディングによる3次元光配線
- 40Gb/s用EA変調器集積DFBレーザモジュール
- 3-6 高精細DC型PDPの開発
- Siレンズを用いた低コストFTTH用μBOSAチップ (メカトロニクス・生産技術特集)
- 平板光学素子を用いたチップ間光インターコネクション用光回路
- 室温大気中接着と熱処理を介して
- 直接接合によるSi基板上InPレーザの室温CW発振
- 異種半導体基板の直接接合と光デバイスへの応用 (先端技術特集)
- 異種半導体基板の直接接着と光デバイスへの応用
- 4)赤色発光有機EL素子用Eu錯体の開発([情報センシング研究会 情報ディスプレイ研究会]合同)
- 赤色発光有機EL素子用Eu錯体の開発
- 赤色発光有機EL素子用Eu錯体の開発
- 2a-X-4 AlGaAs-GaAsSb歪量子井戸からのフォトルミネッセンス
- 光磁気メモリー用磁性薄膜の作製
- 1997 lnternational Conference on lndium Phosphide & Reltee
- 新製品・新技術紹介 シリコン製レンズ,超小型,光通信の伝送効率を向上
- 25a-M-2 In_xGa_As/GaAs単一歪量子井戸のフォトリフレクタンス
- 選択的に酸化されたGaAs/AlAs多層膜の均一性と界面急峻性
- C-3-43 ONU用偏波無依存シリコン細線光導波路回路(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)