MEMS応用に向けたIII族窒化物半導体積層構造の基礎検討

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概要

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• 2009-07-23

著者

• 中村 成志

  首都大学東京大学院理工学研究科

• 奥村 次徳

  首都大学東京大学院理工学研究科

• 中村 成志

  首都大学東京

• 奥村 次徳

  首都大学東京

• 福田 裕司

  首都大学東京

• 束原 肇

  首都大学東京

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