Dependence of Electrical Characteristics on Interfacial Structures of Epitaxial NiSi_2/Si Schottky Contacts Formed from Ni/Ti/Si System
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概要
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- 2007-09-19
著者
-
酒井 彰
室蘭工大工
-
ZAIMA Shigeaki
Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
SAKAI Akira
Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
OGAWA Masaki
EcoTopia Science Institute, Nagoya University
-
Sakai A
Department Of Crystalline Materials Science Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
NAKATSUKA Osamu
Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
SUZUKI Atsushi
Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
AKIMOTO Shingo
Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
Ogawa Masaki
Ecotopia Science Institute Nagoya University
-
Sakai A
Division Of Electrical And Computer Engineering Yokohama National University
-
Okada Masahisa
Department Of Crystalline Materials Science Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
Zaima S
Nagoya Univ. Nagoya Jpn
-
Suzuki Atsushi
Graduate School Of Agricultural Science Tohoku University
-
Nakatsuka O
Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
Zaima Shigeaki
Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
Akimoto Shingo
Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
Suzuki Atsushi
Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
Zaima Shigeaki
Graduate School Of Eng. Nagoya Univ.
-
Nakatsuka Osamu
Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
Nakatsuka Osamu
Graduate School of Eng., Nagoya Univ.
-
Sakai Akira
Graduate School of Engineering Science, Osaka University, 1-3 Machikaneyama-cho, Toyonaka, Osaka 560-8531, Japan
-
Sakai Akira
Graduate School of Engineering Science, Osaka University, 1-3 Machikane-cho, Toyonaka, Osaka 560-8531, Japan
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