Influence of Structural Variation of Ni Silicide Thin Films on Electrical Property for Contact Materials
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概要
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- Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physicsの論文
- 2004-04-30
著者
-
酒井 彰
室蘭工大工
-
Yasuda Y
Department Of Crystalline Materials Science Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
Yasuda Yukio
Department Of Applied Physics Osaka City University
-
SAKAI Akira
Department of Crystalline Materials Science, Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
OKUBO Kazuya
Department of Crystalline Materials Science, Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
TSUCHIYA Yoshinori
Department of Crystalline Materials Science, Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
ZAIMA Shigeaki
Center for Cooperative Research in Advanced Science and Technology, Nagoya University
-
NAKATSUKA Osamu
Center for Integrated Research in Science and Engineering, Nagoya University
-
Nakatsuka Osamu
Center For Integrated Research In Science And Engineering Nagoya University
-
Okubo Kazuya
Department Of Crystalline Materials Science Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
Sakai A
Division Of Electrical And Computer Engineering Yokohama National University
-
Okubo Katsuhiro
Department Of Crystalline Materials Science Graduate School Of Engineering Nagoya University
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