HfO_2 Film Formation Combined with Radical Nitridation and Its Electrical Characteristic
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概要
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- Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physicsの論文
- 2004-11-30
著者
-
酒井 彰
室蘭工大工
-
Yasuda Y
Department Of Crystalline Materials Science Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
ZAIMA Shigeaki
Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
SAKAI Akira
Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
YASUDA Yukio
Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
TAKAHASHI Ryoya
Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
SAKASHITA Mitsuo
Graduate School of Engineering, Nagoya University
-
Sakai A
Department Of Crystalline Materials Science Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
Takahashi Ryoya
Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
Sakai A
Division Of Electrical And Computer Engineering Yokohama National University
-
Zaima S
Nagoya Univ. Nagoya Jpn
-
Zaima Shigeaki
Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
Sakashita M
Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
Zaima Shigeaki
Graduate School Of Eng. Nagoya Univ.
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