沢木 宣彦 | 名古屋大学工学部電子工学科
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概要
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沢木 宣彦
名古屋大学工学部電子工学科
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加納 浩之
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名古屋大学 工学部 電子工学科
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独立行政法人物質・材料研究機構物質研究所
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九州大学大学院総合理工学研究科量子プロセス理工学専攻
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Department Of Materials Science And Technology Graduate School Of Engineering Sciences Kyusyu Univer
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九州大学大学院総合理工学府
著作論文
- ELOによりWN_x電極を埋込むGaN構造の作製と評価
- 選択成長によるGaNの結晶学的評価
- 有機金属気相法で作製したInGaN厚膜の成長過程のTEM観察 : 組成不均一の発生(III族窒化物半導体の結晶成長はどこまで進んだか)
- TEMによるGaN薄膜の評価 : 薄膜
- ELOによりWN_x電極を埋込むGaN構造の作製と評価
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- MOVPE法によるサブミクロンパターンへのGaN選択成長
- HVPE法による選択成長を用いた高品質GaNバルク単結晶の作製及び評価
- MOVPE法によるサブミクロンパターンへのGaN選択成長
- MOVPE法によるInGaNの結晶成長とその評価
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- MOVPE法によるInGaNの結晶成長及び評価
- 高温下におけるGaN薄膜の熱分解過程
- M0VPEによるAlGaN/α-A1_2O_3ヘテロエピタキシーにおけるA1Nバッファ層の効果
- 30p-Z-6 二重量子井戸構造における光伝導 II
- 3a-C-3 二重量子井戸構造における光伝導
- 6p-A2-7 極薄膜超格子におけるラフネス散乱
- 5a-A2-15 二重量子井戸構造における実空間遷移
- 選択成長によるGaNの結晶学的評価
- 選択成長によるGaNの結晶学的評価
- 2a-D-19 二重量子井戸細線の電気伝導
- 6p-H-14 Geの(000)valleyのBand tail