家近 泰 | 住友化学工業(株)つくば研究所

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概要

• 同名の論文著者
• 住友化学工業(株)つくば研究所の論文著者

関連著者

• 家近 泰

  住友化学工業(株)つくば研究所

• 前田 尚良

  住友化学工業(株)つくば研究所

• 家近 泰

  住友化学工業株式会社 筑波研究所

• 前田 尚良

  住友化学工業株式会社 筑波研究所

• 三宅 秀人

  三重大学工学部電気電子工学科

• 平松 和政

  三重大学工学部電気電子工学科

• 平松 和政

  三重大学工学部電子電気工学科

• 元垣内 敦司

  三重大学工学部電気電子工学科

• 平松 和政

  三重大 工

• 直井 弘之

  三重大学SVBL

• 澤木 宣彦

  名古屋大学大学院工学研究科

• 灰野 正紘

  三重大学工学部電気電子工学科

• 山口 元男

  三重大学工学部電気電子工学科

• 水谷 広光

  三重大・工

• 西山 克哉

  三重大・工

• 水谷 広光

  三重大学工学部電気電子工学科

• 西山 克哉

  三重大学工学部電気電子工学科

• 沢木 宣彦

  名古屋大学工学部電子工学科

• 澤木 宣彦

  名古屋大学

• 澤木 宣彦

  名古屋大

• 奥山 喜久夫

  広島大学工学研究科

• 灰野 正絋

  三重大学工学部電気電子工学科

• 島田 学

  広島大学工学部 第三類化学

• 島田 学

  広島大学大学院工学研究科物質化学システム専攻化学工学講座

• 島田 学

  広島大学工学部

• 坊山 晋也

  三重大学 工学部

• 吉川 兼司

  三重大学 工学部

• 三宅 秀人

  三重大学 工学部

• 平松 和政

  三重大学 工学部

• 竹内 亮

  三重大学 工学部

• Riemann T

  institute of Experimental Physics,Otto-von-Guericke-University Magdeburg

• Bertram F

  institute of Experimental Physics,Otto-von-Guericke-University Magdeburg

• Christen J

  institute of Experimental Physics,Otto-von-Guericke-University Magdeburg

• Riemann T

  Otto‐von‐guericke‐univ. Magdeburg Deu

• Bertram F

  Otto-von-guericke‐univ. Magdeburg Magdeburg Deu

• Bertram F

  Institute Of Experimental Physics Otto-von-guericke-university Magdeburg

• Christen J

  Otto-von‐guericke Univ. Magdeburg Deu

• Christen J

  Institute Of Experimental Physics Otto-von-guericke-university Magdeburg

• Setyawan H.

  広島大学工学部 第三類化学工学講座

• Okuyama K

  Hiroshima Univ. Hiroshima Jpn

• 奥山 喜久夫

  広島大学工

• 平松 和政

  三重大学 大学院工学研究科

• 三宅 秀人

  三重大学 大学院工学研究科

• 坊山 晋也

  三重大学工学部

• 吉川 兼司

  三重大学工学部

• 竹内 亮

  三重大学工学部

• Riemann T.

  Institute of Experimental Physics,Otto-von-Guericke-University Magdeburg

• Bertram F.

  Institute of Experimental Physics,Otto-von-Guericke-University Magdeburg

• Christen J.

  Institute of Experimental Physics,Otto-von-Guericke-University Magdeburg

• SETYAWAN Heru

  広島大学工学部 第三類化学工学講座

• Setyawan H.

  広島大学工学部

• Riemann T

  Institute Of Experimental Physics Otto-von-guericke-university Magdeburg

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著作論文

• ELOによりWN_x電極を埋込むGaN構造の作製と評価
• 加圧HVPE法による高品質GaN結晶成長(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
• III族窒化物半導体の低欠陥エピタキシャル成長技術(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
• 加圧HVPE法による高品質GaN結晶成長(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状、及び一般)
• III族窒化物半導体の低欠陥エピタキシャル成長技術(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状、及び一般)
• 垂直型 MOCVD 反応器における GaN 薄膜の成膜速度分布に及ぼす圧力と流量の影響
• 垂直型MOCVD反応器におけるGaN薄膜の成膜速度分布の実験とシミュレーションによる検討 : バルク成長シンポジウム
• FACELO(ファセット制御ELO)によるGaNの低転位化
• ELOによりWN_x電極を埋込むGaN構造の作製と評価
• FACELO(ファセット制御ELO)によるGaNの低転位化
• ELOによりWN_x電極を埋込むGaN構造の作製と評価
• FACELO(ファセット制御ELO)によるGaNの低転位化

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