山田 永 | 住友化学(株)筑波研究所
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概要
関連著者
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山田 永
住友化学(株)筑波研究所
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山田 永
住友化学
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秦 雅彦
住友化学(株)筑波研究所
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高木 信一
東京大学
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福原 昇
住友化学
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秦 雅彦
住友化学
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鶴田 修一
阪市大院工
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竹内 日出雄
滋賀県立大工
-
柳沢 淳一
滋賀県立大工
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中山 正昭
阪市大院工
-
大竹 晃浩
物質・材料研究機構量子ドットセンター
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竹中 充
東京大学 先端科学技術研究センタ
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板谷 太郎
産業技術総合研究所
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安田 哲二
産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター
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横山 正史
東京大学工学系研究科電子工学専攻
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宮田 典幸
産業技術総合研究所
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卜部 友二
産業技術総合研究所
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石井 裕之
産業技術総合研究所
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前田 辰郎
産業技術総合研究所
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星井 拓也
東京大学
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中山 正昭
大阪市大 大学院工学研究科
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柳沢 淳一
滋賀県立大学工学部
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中山 正昭
大阪市大工
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安田 哲二
半導体MIRAI-産総研ASRC
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田岡 紀之
半導体miraiプロジェクト 産業技術総合研究所次世代半導体研究センター(mirai-aist)
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竹中 充
東京大学工学系研究科電気系工学専攻
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竹中 充
東京大学
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宮田 典幸
(独)産業技術総合研究所ナノ電子デバイス研究センター
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横山 正史
東京大学
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横山 正史
東京大学大学院工学系研究科電気系工学専攻
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安田 哲二
産業技術総合研究所
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鶴田 修一
大阪市大工
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大竹 晃浩
物質・材料研究機構
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高木 信一
半導体miraiプロジェクト-ナノ電子デバイス研究センター:東京大学大学院工学系研究科
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金 相賢
東京大学電気系工学専攻
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中根 了昌
東京大学電気系工学専攻
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横山 正史
東京大学電気系工学専攻
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田岡 紀之
東京大学電気系工学専攻
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飯田 亮
東京大学電気系工学専攻
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李 成薫
東京大学電気系工学専攻
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卜部 友二
産業総合研究所
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宮田 典幸
産業総合研究所
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安田 哲二
産業総合研究所
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竹中 充
東京大学電気系工学専攻
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高木 信一
東京大学電気系工学専攻
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中山 正昭
阪市大
著作論文
- 20aHQ-8 i-GaAs/n-GaAsエピタキシャル構造からのテラヘルツ電磁波発生の層厚依存性(20aHQ 超高速現象・量子井戸,領域5(光物性))
- Hiigh-k/3-5界面の組成・構造とMIS特性との関係 (シリコン材料・デバイス)
- High-k/III-V界面の組成・構造とMIS特性との関係(ゲート絶縁薄膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- 25pPSB-30 アンドープGaAs/n型GaAsエピタキシャル構造からのテラヘルツ電磁波の時間分割Fourier変換解析(25pPSB 領域5ポスターセッション(光誘起相転移・励起子・非線形等),領域5(光物性))
- Ni-InGaAs合金を用いた自己整合型メタルソース・ドレインIn_xGa_As MOSFETs(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))