OS1204 ナノらせん要素配列界面層き裂先端における応力場とその破壊基準(ナノ・マイクロからの視点からの変形と破壊の力学(1),オーガナイズドセッション)

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概要

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• ナノらせん要素配列界面層を挿入した異材界面におけるき裂伝ぱの支配因子を明らかにすることを目的として,予き裂導入試験片を用いたき裂伝ぱ試験と応力解析を実施した.き裂は界面層内を伝ぱし,その先端近傍には均質体中のき裂とは異なる応力場が存在する.き裂の伝ぱは,き裂先端に位置するナノらせん要素の見かけの応力によって規定されており,本研究で用いたTa_2O_5ナノらせん要素配列界面層のき裂伝ぱクライテリオンは,σ_c=79.0±6.0MPaと評価された.

• 2008-09-16

著者

• 鈴木 基史

  京大

• 二村 有哉

  京都大学

• 北村 隆行

  京都大学大学院工学研究科機械物理工学専攻

• 北村 隆行

  京大

• 末田 泰介

  京都大学

• 鈴木 基史

  京都大学

• 澄川 貴志

  京大 大学院工学研究科

• 二村 有哉

  京大

• 末田 泰介

  京大

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