自己参照に基づくパターン欠陥検査法(一般セッション7,コンピュータビジョンとパターン認識のための学習理論)
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概要
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本研究では,工業製品の検査画像から欠陥を検出する手法を提案する.画像の任意の位置のパターンについて類似したパターンを探し,その位置との比較を行い欠陥候補を特定する.さらに複数の同型な別の検査画像を用い,画像間の明るさむら・サブピクセル単位のずれを吸収しつつ高速に検出を行う.本手法により,繰り返しパターンとランダムパターンが混在する半導体基板画像から,小さく低輝度な欠陥を高速に検出できることを確認した.
- 2009-03-06
著者
-
和田 俊和
和歌山大学システム工学部
-
淺海 徹哉
和歌山大学システム工学部
-
酒井 薫
日立製作所生産技術研究所
-
前田 俊二
日立製作所生産技術研究所
-
和田 俊和
和歌山大学
-
前田 俊二
日立製作所 横浜研究所
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