21pXJ-4 遷移金属安定化2重グラフェンシート構造のシリコン半導体超薄膜II(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
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概要
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- 2007-08-21
著者
-
宮崎 剛英
産総研計算科学研究部門
-
金山 敏彦
産総研・ナノ電子デバイス研究センター
-
金山 敏彦
産総研次世代半導体
-
金山 敏彦
産総研次世代半導体研究センター
-
金山 敏彦
半導体miraiプロジェクト 産業技術総合研究所 ナノ電子デバイス研究センター
-
金山 敏彦
産業技術総合研 次世代半導体研究セ
-
宮崎 剛英
産総研計算科学
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