Cell Library Development Methodology for Throughput Enhancement of Character Projection Equipment (CAD, <Special Section> VLSI Design Technology in the Sub-100nm Era)

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概要

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• We propose a cell library development methodology for throughput enhancement of character projection equipment. First, an ILP (Integer Linear Programming)-based cell selection is proposed for the equipment for which both of the CP (Character Projection) and VSB (Variable Shaped Beam) methods are available, in order to minimize the number of electron beam (EB) shots, that is, time to fabricate chips. Secondly, the influence of cell directions on area and delay time of chips is examined. The examination helps to reduce the number of EB shots with a little deterioration of area and delay time because unnecessary directions of cells can be removed. Finally, a case study is shown in which the numbers of EB shots are shown for several cases.

• 社団法人電子情報通信学会の論文

著者

• Murakami Kazuaki

  The Authors Are With The Department Of Computer Science And Communication Engineering Kyushu Univers

• Murakami Kazuaki

  Kyushu

• Murakami K

  Department Of Informatics Kyushu University

• Nakamura Kenta

  Ibm

• Inanami Ryoichi

  E-beam Corporation

• Okumura Katsuya

  The University Of Tokyo

• SUGIHARA Makoto

  ISIT

• MATSUNAGA Yusuke

  Kyushu University

• TAKATA Taiga

  Kyushu University

• NAKAMURA Kenta

  Kyushu University

• HAYASHI Hiroaki

  Tokyo Electron Limited

• KISHIMOTO Katsumi

  e-BEAM Corporation

• HASEBE Tetsuya

  Tokyo Electron Limited

• KAWANO Yukihiro

  e-BEAM Corporation

• Sugihara M

  Department Of Information And Computer Sciences Toyohashi University Of Technology

• Matsunaga Y

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• Takata Taiga

  Kyushu Univ. Fukuoka‐shi Jpn

• Sugihara Makoto

  Toyohashi Univ. Technol. Toyohashi‐shi Jpn

• Taiga Takata

  Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University

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