部分一括描画装置の処理能力向上のための描画面積最適化(計算機システム化技術,<特集>システムLSI設計とその技術)
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概要
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本稿では,部分一括描画法の描画能力を高めることを目的とし,描画面積を最適にする手法について議論する.部分一括描画法は電子線直描やフォトマスクの製造に応用可能な電子線描画技術である.描画装置の減価償却の意味で,部分一括描画法の描画時間は電子デバイスやフォトマスクの価格を決定するものであり,削減されることが望ましい.本稿では,CPマスク上に配列状に搭載されるキャラクタの大きさを最適にすることによって,描画時間を削減する手法を提案する.提案手法により,既存の手法と比べて最大71.1%の描画時間を削減した.
- 2007-05-15
著者
-
村上 和彰
九州大学大学院システム情報科学府
-
村上 和彰
九州大学:戦略的創造研究推進事業
-
松永 裕介
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
杉原 真
豊橋技術科学大学情報工学系
-
杉原 真
九州大学大学院システム情報科学研究科情報工学専攻
-
杉原 真
財団法人九州システム情報技術研究所
-
Murakami K
Department Of Informatics Kyushu University
-
杉原 真
豊橋技術科学大学大学院工学研究科情報・知能工学系|独立行政法人科学技術振興機構 Crest
-
杉原 真
豊橋技術科学大学:独立行政法人科学技術振興機構 Jst
-
村上 和彰
九州大学大学院 システム情報科学研究院 情報理学部門
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