キャラクタプロジェクション法のためのセルライブラリ開発手法(プロセッサ, DSP, 画像処理技術及び一般)
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概要
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本稿では, 電子ビーム直描で用いられるキャラクタプロジェクション法のスループットを向上するセルライブラリ開発手法について議論する.第一に, 整数計画法に基づいたセル選択手法を提案する.製造時間, すなわちショット数が最小になるように, キャラクタプロジェクション法で描画するセルと, VSBで描画するセルを選択する.次に, セルの反転の有無が回路の面積と遅延に及ぼす影響を調査する.反転されたセルはCPアパーチャマスク上では異なるものとして扱われるために, 反転されたセルを削減することはより多くのセルをCPアパーチャマスク上に搭載できることを意味する.最後に, ケーススタディを行い, 提案手法の有効性を検証する.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-10-14
著者
-
村上 和彰
九州大学大学院システム情報科学府
-
松永 裕介
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
杉原 真
豊橋技術科学大学情報工学系
-
高田 大河
九州大学
-
河野 幸弘
イービーム
-
奥村 勝弥
東京大学先端科学技術研究センター
-
林 博昭
東京エレクトロン
-
杉原 真
財団法人九州システム情報技術研究所
-
中村 健太
九州大学
-
稲浪 良市
イービーム
-
岸本 克己
イービーム
-
長谷部 鉄也
東京エレクトロン
-
村上 和彰
九州大学 情報基盤センター
-
奥村 勝弥
東京大学
-
中村 健太
九州大学大学院システム情報科学研究院情報理学専攻
-
松永 裕介
九州大学 大学院システム情報科学研究院 情報工学部門
-
高田 大河
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
村上 和彰
九州大学
-
松永 裕介
九州大学
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