MR素子の応力解析とSAL膜に対する応力誘導異方性の影響
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概要
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SALバイアス型のMRヘッドにおける応力誘導異方性の影響について調べた。単層膜の応力のデータをもとにMR素子積層膜の応力解析を行った結果、素子高さ方向の片側端面が開放された場合、SAL膜の高さ方向に100〜300MPa程度の異方的な引っ張り応力が観察された。SAL膜に対する応力誘導異方性の影響を調べるためにR-Hカーブの計算を行った結果、素子高さ方向に300MPaの異方的な引っ張り応力がある場合、SAL膜のλ_sを+1×10^<-6>〜-2×10^<-6>の範囲に設定すれば、応力誘導異方性によるR-Hカーブの乱れを小さくできることがわかった。
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1996-06-13
著者
-
石綿 延行
Necデバプラ研
-
鈴木 哲広
NECデバイスプラットフォーム研究所
-
山田 一彦
日本電気株式会社 機能デバイス研究所
-
山田 一彦
NEC機能デバイス研究所
-
石綿 延行
NEC機能デバイス研究所
-
鈴木 哲広
NEC機能デバイス研
-
石 勉
NEC機能デバイス研究所
-
山田 一彦
Nec機能デバイス研
-
石 勉
MIRAI-Selete
-
鈴木 哲広
Nec機能エレクトロニクス研究所
-
石綿 延行
NEC機能エレクトロニクス研究所
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