熱磁化制御マイクロラッチ機構
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概要
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電子機器の小型化に応えるため、機構部品をICプロセスを活用して作るマイクロマシンの研究が盛んである。しかし、電磁コイルはICプロセスで作るのが難しいため、磁気アクチュエータのマイクロ化が進んでいない。そこで、我々は、熱による磁化変化を利用した磁力の制御方法を提案した。今回、双極型熱磁化制御ラッチ機構をICプロセスで作成し、ラッチ動作を確認したので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-09-26
著者
-
田中 秀尚
Ntt境界領域研究所
-
田中 秀尚
日本電信電話株式会社 Nttサイバースペース研究所
-
田中 秀尚
Nttフォトニクス研究所
-
橋本 悦
NTT境界領域研究所
-
上西 祐司
NTT境界領域研究所
-
渡部 昭憲
NTT境界領域研究所
-
鈴木 与志雄
NTT境界領域研究所
-
Tanaka H
Ntt Interdisciplinary Research Laboratories
-
Tanaka Hidenao
Ntt Integrated Information & Energy Systems Laboratories
-
Tanaka Hidenao
The Authors Are With Ntt Cyber Space Laboratories
-
橋本 悦
Ntt通信エネルギー研究所
-
上西 祐司
Ntt
-
鈴木 与志雄
NTT 通信エネルギー研究所
-
橋本 悦
NTT 通信エネルギー研究所
-
鈴木 与志雄
Ntt 通信エネルギー研
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