1.8V動作AND型512Mbフラッシュメモリの回路設計 (<特集>メモリ・混載メモリ及びIC一般)
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概要
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携帯オーディオ等に使われるリムーバブルメディアに適した512Mbフラッシュメモリを開発した。0.18μm CMOSプロセス、および2bit/1cellの多値技術を用いて、チップ面積126.6mm^2を実現した。メモリセルは多値動作に適したAND型である。本論文では512Mbフラッシュメモリに適用した回路技術について報告する。まず、低電圧動作技術として、安定な内部電源電圧発生について説明する。次に、トータルシステムコスト削減技術について説明する。本技術は、セクタデータが消去されているかトレースする必要がないのでメモリシステム簡略化が可能である。
- 2001-04-05
著者
-
石井 達也
日立製作所半導体事業部
-
大嶋 一義
日立製作所デバイス開発センタ
-
野田 敏史
(株)ルネサステクノロジ
-
古沢 和則
(株)ルネサステクノロジ
-
佐藤 聡彦
(株)ルネサステクノロジ
-
加藤 正高
日立製作所中央研究所
-
石井 達也
日立製作所デバイス開発センタ
-
加藤 正高
(株)日立製作所半導体事業部半導体開発センタ
-
加藤 正高
日立製作所半導体グループ
-
細金 明
三菱電機株式会社ULSI開発研究所
-
岸本 次郎
(株)日立製作所半導体事業部
-
吉竹 貴之
(株)日立製作所半導体事業部
-
佐藤 弘
日立製作所デバイス開発センタ
-
野田 敏史
日立製作所デバイス開発センタ
-
岸本 次郎
日立製作所デバイス開発センタ
-
小谷 博昭
日立製作所デバイス開発センタ
-
野副 敦史
日立製作所デバイス開発センタ
-
古沢 和則
日立製作所半導体グループ
-
吉竹 貴之
日立製作所半導体グループ
-
高橋 正人
日立製作所半導体グループ
-
佐藤 聡彦
日立製作所半導体グループ
-
久保埜 昌次
日立超LSIシステムズ
-
間仁田 喜一
日立超LSIシステムズ
-
香田 憲次
三菱電機株式会社
-
中山 武志
三菱電機株式会社
-
細金 明
三菱電機株式会社
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