有機ポリシラン真空蒸着膜の光吸収スペクトル(有機EL, TFT,及び一般)
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概要
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我々は今までに、種々の有機ポリシランの分子構造とパッキングについて検討・報告してきた。今回、我々が構造解析に成功したポリジメチルシランを真空蒸着法により薄膜化し、その光物性について検討を行った。基板温度が60[℃]で真空蒸着した薄膜を真空デシケータで保存した場合の可視・紫外域の光吸収スペクトルの経時変化においては、時間の経過と共に300[nm]近傍の吸収ピーク強度が増加した。一方、基板温度が60[℃]で真空蒸着した薄膜を大気中で保存した場合の可視・紫外域の光吸収スペクトルの経時変化においては、時間の経過と共に300[nm]近傍の吸収ピーク強度が減少した。前者の変化は薄膜の構造がより安定なものに移行したためと思われ、後者の変化は酸化によりポリジメチルシランの主鎖が切断されたためと考えられる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-04-08
著者
-
安田 敬
九州工業大学・大学院情報工学研究院
-
古川 昌司
九州工業大学・大学院情報工学研究科
-
大多 英隆
九州工業大学
-
大多 英隆
九州工業大学・大学院情報工学研究科
-
高本 智基
九州工業大学・大学院情報工学研究科
-
石井 浩司
九州工業大学・大学院情報工学研究科
-
古川 昌司
九州工業大学
-
安田 敬
九工大 大学院情報工学研究院
-
石井 浩司
九州工業大学
-
安田 敬
九州工業大学
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