ポリシラスチレン薄膜の光学的・電気的特性に関する研究(有機EL及び関連有機材料, 低温poly-Siと有機TFT技術と一般)
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概要
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我々は今までに、種々のシリコン系高分子(有機ポリシラン)の分子構造とパッキングについて検討・報告してきた。また、有機ポリシランの内、最も基本的な構造を持つポリジメチルシランを真空蒸着法により薄膜化することを提唱し、蒸着時の基板温度、薄膜の成長速度、及び真空度等を変化させることにより、その配向性を制御することにも成功した。今回、ポリシラスチレンを薄膜化し、その光学的及び電気的特性について検討したので、それらの結果について報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-04-14
著者
-
安田 敬
九州工業大学・大学院情報工学研究院
-
安田 敬
九州工大 情報工
-
古川 昌司
九州工業大学・大学院情報工学研究科
-
大多 英隆
九州工業大学
-
荒川 等
九州工業大学
-
大多 英隆
九州工業大学・大学院情報工学研究科
-
高本 智基
九州工業大学・大学院情報工学研究科
-
石井 浩司
九州工業大学・大学院情報工学研究科
-
古川 昌司
九州工業大学
-
荒川 等
九州工業大学・大学院情報工学研究科
-
安田 敬
九工大 大学院情報工学研究院
-
石井 浩司
九州工業大学
-
安田 敬
九州工業大学
-
安田 敬
九工大情報工
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